[发明专利]整修加工反应室组件的方法无效
| 申请号： | 200910170463.1 | 申请日： | 2009-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN101664746A | 公开（公告）日： | 2010-03-10 |
| 发明（设计）人： | 邱健宾;郑文正;吴文生 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B9/08 | 分类号： | B08B9/08;B08B7/00;C23C16/44;C23C16/34 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 姜 燕;陈 晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种清洁与整修加工反应室组件的方法，包含：将在一外表面具有工艺沉积物的一反应室组件，置于一等离子体气相沉积(plasma vapor deposition；PVD)反应室中；以及在足以从上述反应室组件的上述外表面移除上述工艺沉积物的一期间内，以包含氩的一等离子体轰击上述反应室组件。本发明提供的清洁与整修加工反应室组件的方法能够防止组件的氧化且不会造成组件的表面损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 整修 加工 反应 组件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种整修加工反应室组件的方法，包含下列步骤：将在一外表面具有工艺沉积物的一反应室组件，置于一等离子体气相沉积反应室中；以及在足以移除该工艺沉积物的一期间内，以一等离子体轰击该反应室组件。
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