[发明专利]用于三维IC互连的衬底对衬底键合装置和方法无效
| 申请号: | 200910170208.7 | 申请日: | 2009-09-04 |
| 公开(公告)号: | CN101667528A | 公开(公告)日: | 2010-03-10 |
| 发明(设计)人: | 余振华;邱文智;吴文进 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/50;H01L21/60 |
| 代理公司: | 北京市德恒律师事务所 | 代理人: | 梁 永 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种用于三维IC互连的衬底对衬底键合装置和方法。本发明的装置包括键合头、辅助支撑、还原模件和变换器。键合头抓住第一衬底,所述第一衬底包括第一金属衬垫组。辅助支撑抓住第二衬底,所述第二衬底包括第二金属衬垫组。对准器通过将所述第一金属衬垫组与第二金属衬垫组对准形成对准的金属衬垫组。还原模件容纳所述对准的金属衬垫组,且还原性气体流入所述还原模件。所述变换器提供对所述对准的金属衬垫组的重复的相关运动。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 三维 ic 互连 衬底 装置 方法 | ||
【主权项】:
1、一种装置,包括:键合头,其被配置用于抓住包含第一金属衬垫组的第一衬底;辅助支撑,其被配置用于抓住包含第二金属衬垫组的第二衬底;对准器,其被配置用于将所述第一金属衬垫组与第二金属衬垫组对准,从而形成对准的金属衬垫组;还原模件,其被配置用于容纳所述对准的金属衬垫组,且其中所述还原模件被配置用于接收还原性气体;变换器,其被配置用于提供对所述对准的金属衬垫组的重复的相关运动。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





