[发明专利]掺镓CZ硅棒及配料中硼、磷的分析方法无效
| 申请号: | 200910155179.7 | 申请日: | 2009-12-03 |
| 公开(公告)号: | CN102087239A | 公开(公告)日: | 2011-06-08 |
| 发明(设计)人: | 石坚 | 申请(专利权)人: | 王正园 |
| 主分类号: | G01N27/04 | 分类号: | G01N27/04 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 314100 浙江省嘉*** | 国省代码: | 浙江;33 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 一种掺镓CZ硅棒及配料中硼、磷的分析方法。该方法首先计算出镓在硅棒的头部掺杂浓度和一定长度上的掺杂浓度,以及只考虑硼磷时CZ硅棒的头部掺杂浓度和一定长度上的掺杂浓度,根据公式(5)、(6),推导出此掺镓CZ硅棒配料中的硼、磷含量,转换成对应的电阻率,并用EXCEL制成表格。本发明是掺镓太阳能级CZ硅单晶中必不可少的质量控制方法,通过本发明将使太阳能硅片的生产处于可控状况下,提高产品质量和企业竞争力。 | ||
| 搜索关键词: | 掺镓 cz 配料 分析 方法 | ||
【主权项】:
1.一种掺镓CZ硅棒及配料中硼、磷的分析方法,其特征由以下步骤组成:一、根据测量的硅棒的头部和一定长度上的极性和电阻率,然后根据GB/T 13389-1992掺硼掺磷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程中的公式计算出对应的头部和一定长度上等效掺杂剂浓度N头总和NL总;二、根据晶体生长理论,结合已知的一定量的镓以及阿伏加德罗常数、硅棒生长参数,得出关于晶棒投料量W、目标长度L、平均直径D的浓度分凝公式(4):
式(4)其中:N目是晶体开始生长L时,晶体上的镓的浓度;N0是晶体头部镓浓度;D是晶体的平均直径;L是晶体生长长度;W是投炉量;K0是溶质的有效分凝系数;N 0 = K Ga × W Ga 69.723 × 6.02 × 10 23 W 2.33 ]]> KGa是镓的有效分凝系数;WGa是已知镓的重量;三、根据已知的硅棒头部等效掺杂剂浓度N头总、硅棒长度L上等效掺杂剂浓度NL总、晶体的平均直径D、晶体生长长度L、投炉量W、镓的有效分凝系数WGa=0.008、N目、N0,得出硅棒头部硼磷补偿后的掺杂剂浓度N头=N头总-N0和NL=NL总-N目;四、磷的有效分凝系数K0P=0.35,硼的有效分凝系数K0B=0.75,得出生产此硅棒的配料中原始磷浓度为Y,原始硼浓度为X:
式(5)
式(6)五、根据GB/T 133891992掺硼掺磷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程,计算出生产此硅棒的配料中P型等效电阻率和N型等效电阻率、此硅棒其他各点的电阻率以及硅棒其他各点硼的电阻率分布,借助EXCEL表格,得出计算表格。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于王正园,未经王正园许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910155179.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。





