[发明专利]真空处理装置

摘要

本发明提供一种真空处理装置，其在打开盖住容器主体的上部开口部的盖体，将被处理体搬入搬出处理容器时，可以降低混入处理容器内部的水分和颗粒的量。其包括内部具有成为被处理体的基板(S)的载置台(3)的容器主体(21)和盖住该容器主体(21)的上部开口部的盖体(22)，当为了将上述基板(S)搬入或者搬出处理容器(20)而在盖体(22)和容器主体(21)之间形成间隙时，在处理容器(20)的外周面，沿周方向设置罩部件(5)，以便至少在基板(S)的搬入搬出区域之外的区域覆盖上述间隙。

主权项

1、一种真空处理装置，其特征在于，包括：处理容器，其由内部具有被处理体的载置台的容器主体和盖住该容器主体的上部开口部的盖体构成；升降机构，使所述盖体相对于容器主体进行升降，以在所述盖体和容器主体之间形成用于将所述被处理体搬入或者搬出处理容器的间隙；真空排气单元，其用于对所述处理容器内进行真空排气；和罩部件，沿周方向设置于处理容器的外周面，以在为了将所述被处理体搬入或者搬出处理容器而在盖体和容器主体之间形成间隙时，至少在除了被处理体的搬入搬出区域的区域覆盖所述间隙。