[发明专利]制造坐标检测器的方法有效
| 申请号： | 200910139063.4 | 申请日： | 2009-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN101582004A | 公开（公告）日： | 2009-11-18 |
| 发明（设计）人： | 近藤幸一 | 申请（专利权）人： | 富士通电子零件有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/045 | 分类号： | G06F3/045 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 郭 放 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种制造具有电阻膜和用于对电阻膜施加电压的公共电极的坐标检测器的方法，包括以下工序：(a)在形成于由绝缘体构成的基板上的电阻膜上涂敷光致抗蚀剂；(b)经过预定的掩模将所涂敷的光致抗蚀剂曝光并随后将所涂敷的光致抗蚀剂显影，从而在电阻膜上形成抗蚀剂图案；(c)通过去除没有抗蚀剂图案的电阻膜的一部分以形成电阻膜去除区域；(d)在工序(c)后去除抗蚀剂图案；以及(e)在工序(d)后在电阻膜去除区域上方形成公共电极。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 坐标 检测器 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制造具有电阻膜和用于对所述电阻膜施加电压的公共电极的坐标检测器的方法，包括以下工序：a、在形成于由绝缘体构成的基板上的所述电阻膜上涂敷光致抗蚀剂；b、经过预定的掩模将所涂敷的光致抗蚀剂曝光并随后将所涂敷的光致抗蚀剂显影，从而在所述电阻膜上形成抗蚀剂图案；c、通过去除没有所述抗蚀剂图案的所述电阻膜的一部分以形成电阻膜去除区域；d、在所述工序c后去除所述抗蚀剂图案；以及e、在所述工序d后在所述电阻膜去除区域上方形成公共电极。
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