[发明专利]一种光刻机硅片台双台交换系统有效
| 申请号: | 200910131507.X | 申请日: | 2009-04-03 |
| 公开(公告)号: | CN101571676A | 公开(公告)日: | 2009-11-04 |
| 发明(设计)人: | 朱煜;张鸣;汪劲松;田丽;徐登峰;尹文生;段广洪;胡金春 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 | 代理人: | 邸更岩 |
| 地址: | 100084北京市100*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 一种光刻机硅片台双台交换系统,该系统含有运行于曝光工位的硅片台和运行于预处理工位的硅片台,两个硅片台设置在同一基台上,通过气浮轴承悬浮在基台上表面;每个硅片台分别由一条沿Y方向的导轨穿过,导轨的一端与一个主驱动单元连接,两个硅片台可沿导轨在Y方向移动,导轨另一端可与一个X方向单自由度辅助驱动单元对接,并在单自由度辅助驱动单元驱动下可实现硅片台在X方向的移动;单自由度辅助驱动单元和Y方向的导轨可实现分离和精确对接,以此来实现两个硅片台的位置交换。本发明避免了在硅片台交换时气浮轴承跨导向面交换导致的极高的硅片台尺寸一致性的精度要求,以及零部件的加工和装配高精度要求等缺陷,大大简化了系统结构,二是该系统双台交换采用质心驱动,使系统的精度大大提高。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 光刻 硅片 台双台 交换 系统 | ||
【主权项】:
1.一种光刻机硅片台双台交换系统,该系统含有运行于曝光工位(3)的第一硅片台(13)和运行于预处理工位(4)的第二硅片台(14),两个硅片台设置在同一长方形基台(1)上,长边为X方向,短边为Y方向,两硅片台位于基台上表面(2),其特征在于:在基台两个长边边缘分别设有第一Y方向直线电机定子(5a)、第二Y方向直线电机定子(5b)、第三Y方向直线电机定子(6a)和第四Y方向直线电机定子(6b),第二单自由度辅助驱动单元(8)使用第一Y方向直线电机定子(5a),第一主驱动单元(11)使用第二Y方向直线电机定子(5b),第二主驱动单元(12)使用第三Y方向直线电机定子(6a),第一单自由度辅助驱动单元(7)使用第四Y方向直线电机定子(6b);Y方向第一导轨(15)穿过第一硅片台(13),Y方向的第二导轨(16)穿过第二硅片台(14);Y方向第一导轨(15)的一端与第一主驱动单元(11)连接,Y方向第一导轨(15)的另端与第一单自由度辅助驱动单元(7)对接,第一单自由度辅助驱动单元(7)和Y方向第一导轨(15)采用分离式结构,在两个硅片台交换位置时断开;Y方向第二导轨(16)的一端与第二主驱动单元(12)连接,Y方向第二导轨(16)的另一端与第二单自由度辅助驱动单元(8)对接,第二单自由度辅助驱动单元(8)和Y方向第二导轨(16)采用分离式结构,在两个硅片台交换位置时断开;在两个硅片台交换位置时,首先,硅片台(13)沿Y方向第一导轨(15)向第一主驱动单元(11)方向运动,硅片台(14)沿Y方向第二导轨(16)向第二主驱动单元(12)方向运动;之后,Y方向第一导轨(15)与第一单自由度辅助驱动单元(7)分开并向第一主驱动单元(11)方向运动,Y方向第二导轨(16)与第二单自由度辅助驱动单元(8)分开并向第二主驱动单元(12)方向运动;然后,第一主驱动单元(11)和第二主驱动单元(12)分别驱动硅片台(13)和硅片台(14)沿X方向进行工位交换,同时第二单自由度辅助驱动单元(8)运动至曝光工位(3)的初始位置,第一单自由度辅助驱动单元(7)运动至预处理工位(4)的初始位置;最后,Y方向第一导轨(15)和第二单自由度辅助驱动单元(8)对接,硅片台(13)运动至预处理工位(4)初始位置,Y方向第二导轨(16)和第一单自由度辅助驱动单元(7)对接,硅片台(14)运动至曝光工位(3)初始位置,交换完成进入下一循环。
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