[发明专利]光罩及检测其污染的方法有效
| 申请号： | 200910130393.7 | 申请日： | 2009-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN101666972A | 公开（公告）日： | 2010-03-10 |
| 发明（设计）人： | 郑智文 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G03F1/08;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿 宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是有关于一种光罩及检测其污染的方法。该光罩包含透明基材、掩模图案与检查结构。掩模图案形成于透明基材的第一区，其中掩模图案包含一个或多个开口，以及一个或多个特征。上述的开口用以允许光辐射通过，而特征的材质为第一材料。检查结构形成于透明基材上与第一区相异的第二区，且检查结构的材质为第二材料，其中第二材料与第一材料相异。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 污染 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光罩，其特征在于其包含：一透明基材；一掩模图案，形成于该透明基材的一第一区，且该掩模图案包含：一个或多个开口，用以允许光辐射通过；及一个或多个特征，上述的特征的材质为一第一材料；以及一检查结构，形成于该透明基材上与该第一区相异的一第二区，且该检查结构的材质为一第二材料，其中该第二材料与该第一材料相异。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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