[发明专利]照射光学系统、照射设备和半导体器件制造方法无效
| 申请号： | 200910128441.9 | 申请日： | 2009-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN101539664A | 公开（公告）日： | 2009-09-23 |
| 发明（设计）人： | 月原浩一 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G02B27/28;G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱 胜;高少蔚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种照射光学系统、照射设备和半导体器件制造方法，其中，照射光学系统包括：第一投射光学系统，用于将从具有多个线性排列的发光点的激光源输出的多个光束彼此混合，并且将混合的光束分成多个光束，然后向具有彼此平行的多个狭缝的狭缝部件投射多个光束作为跨越多个狭缝延伸的线射束；以及第二投射光学系统，用于将狭缝部件的多个狭缝的图像投射到照射目标。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 光学系统 设备 半导体器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种照射光学系统，包括：第一投射光学系统，用于将从具有多个线性排列的发光点的激光源输出的多个光束彼此混合，并且将混合的光束分成多个光束，然后向具有彼此平行的多个狭缝的狭缝部件投射所述多个光束作为跨越所述多个狭缝延伸的线射束；以及第二投射光学系统，用于将所述狭缝部件的多个狭缝的图像投射到照射目标，所述第二投射光学系统包括：偏振控制元件阵列，其具有与所述多个狭缝的数目相等的多个偏振控制元件，用于接收通过所述狭缝部件的多个狭缝传送的多个光束并且控制接收到的多个光束的偏振；以及强度调整元件，用于接收通过所述偏振控制元件阵列传送的多个光束并且调整多个光束的强度。
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