[发明专利]玻璃基板热处理平台、其制造方法和玻璃基板热处理方法无效

专利信息
申请号: 200910126018.5 申请日: 2009-02-27
公开(公告)号: CN101519315A 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 外山公也;佐藤一博;村口幸人;长浜真之介 申请(专利权)人: 株式会社伊奈
主分类号: C04B38/00 分类号: C04B38/00;C04B38/06;H01L21/00
代理公司: 北京金信立方知识产权代理有限公司 代理人: 黄 威;张 彬
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种使平板显示器基板等玻璃基板难以滑动,且强度很高的玻璃基板热处理平台,并且是一种用于在其上表面装载玻璃基板进行热处理的平台,具有多孔区域P和致密区域T。多孔区域P具有三维网状结构的连通气孔,其空气透过率优选为0.5~10×10-3cm2。并且优选由氧化锂系烧结体所构成。
搜索关键词: 玻璃 热处理 平台 制造 方法
【主权项】:
1、一种玻璃基板热处理平台,是用于在其上表面装载玻璃基板进行热处理的平台,由板状的陶瓷烧结体所构成,其特征在于,由具有多孔区域和比该多孔区域更加致密的致密区域的陶瓷烧结体所构成,该多孔区域具备连通气孔,在平台的厚度方向具有通气性。
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