[发明专利]冲击衰减装置及包含该装置的产品有效
| 申请号： | 200910117819.5 | 申请日： | 2005-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN101513287A | 公开（公告）日： | 2009-08-26 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·A·艾维尼 | 申请（专利权）人： | 耐克国际有限公司 |
| 主分类号： | A43B13/18 | 分类号： | A43B13/18;A43B21/26;A43B5/00;F16F3/087 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 颜 涛;郑 霞 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种冲击衰减装置，其包括凹侧壁(102c)和凸侧壁(104c)，所述侧壁例如呈交错布置，可选地至少部分由限制元件围绕，在衰减冲击之后，其可帮助所述冲击衰减装置返回其原来的方位。这样的冲击衰减装置可包括在鞋类和/或其它足部容纳装置中。另外，例如基于预期用户和/或预期用途的一个或更多特征，这样的冲击衰减装置或其部分在鞋类或其它足部容纳装置中可被自由地选择和/或互换，以允许用户获得定制并旨在用于预定条件的鞋类(或其它装置)。 | ||
| 搜索关键词： | 冲击 衰减 装置 包含 产品 | ||
【主权项】：
1.一种装置，其包括：第一元件，其包括具有第一结构方位的多个侧壁；以及第二元件，其包括具有第二结构方位的多个侧壁，其中所述第二元件的至少一个侧壁位于所述第一元件的两邻近的侧壁之间，而所述第一元件的至少一个侧壁位于所述第二元件的两邻近的侧壁之间，其中，所述第一结构方位或所述第二结构方位之一为相对于界定在所述第一元件和第二元件之间的内空间的凹方位，而所述第一结构方位或所述第二结构方位之一为相对于所述内空间的凸方位。
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