[发明专利]圆环形闭合沟道有机薄膜晶体管无效
申请号: | 200910087810.4 | 申请日: | 2009-06-26 |
公开(公告)号: | CN101593811A | 公开(公告)日: | 2009-12-02 |
发明(设计)人: | 赵谡玲;王赟;徐征;张福俊 | 申请(专利权)人: | 北京交通大学 |
主分类号: | H01L51/05 | 分类号: | H01L51/05;H01L51/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100044北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 圆环形闭合沟道有机薄膜晶体管,涉及一种新型结构的场效应器件,用于LCD平板显示中的像素驱动。它的结构包括:在ITO导电玻璃(1)上,依次制作绝缘层(2),有源层(3),源漏电极(4)和漏电极(5)。其中位于源电极和漏电极之间的沟道呈闭合圆环形。绝缘层(2)的材料采用SiO2或Si3N4;有源层(3)的材料采用并五苯或酞菁铜;源(4)、漏电极(5)的材料采用Al或者Au。绝缘层的厚度150~300nm,有源层的厚30~60nm。这种原型沟道器件比传统的直线沟道器件有更高的场效应迁移率,输出特性曲线更为陡峭,并且获得了更大的饱和输出电流,从而提高了器件的输出性能。 | ||
搜索关键词: | 圆环 闭合 沟道 有机 薄膜晶体管 | ||
【主权项】:
1.圆环形闭合沟道有机薄膜晶体管,它的结构是:在ITO导电玻璃(1)上,依次制作绝缘层(2),有源层(3),以及源电极(4)和漏电极(5);源漏驱动电源和栅电源均采用直流电源。其特征在于:在蒸镀金属制备源电极(4)和漏电极(5)的时候,采用环行的掩膜,使得制备的沟道形状为闭合的圆环形结构,同时源、漏电极分别紧贴并位于圆环形沟道的外侧和内侧。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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