[发明专利]一种利用可见光测量单模光纤模场分布的方法和装置无效

专利信息
申请号: 200910077426.6 申请日: 2009-02-11
公开(公告)号: CN101487737A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: 刘永椿;吴重庆;刘豪 申请(专利权)人: 北京交通大学
主分类号: G01J1/42 分类号: G01J1/42
代理公司: 北京市商泰律师事务所 代理人: 毛燕生
地址: 100044北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种测定光纤模场而不需要昂贵光学设备和复杂测量程序的方法。光源以平行于所述光纤纵轴入射这样一种方式射向光纤的无被覆输入端面,使输出的光强分布图像尽可能满足实验测量要求,然后根据测得的光纤输出端的光强分布计算出单模光纤的模场。本发明利用可见光波段进行测量,避免使用价格昂贵的红外探测器和红外激光光源,大大地降低了成本。同时便于用肉眼调整,也便于光强信息的采集。本发明利用普通半导体激光器作为光源,使用方便,所需要的设备少,成本低廉,并且对环境没有严格的要求。本发明利用CCD探测光纤输出端的光强分布,能进行全场测量,一次性取齐全部数据,避免使用机械移动的扫描设备。
搜索关键词: 一种 利用 可见光 测量 单模 光纤 分布 方法 装置
【主权项】:
1. 一种利用可见光测量单模光纤模场分布的方法,其特征是:光源以平行于光纤纵轴入射这样一种方式射向光纤的无被覆输入端面,使输出的光强分布图像满足实验测量要求,然后根据测得的光纤输出端的光强分布计算出单模光纤的模场。
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