[发明专利]一种用于光刻机的掩模预对准装置及方法有效
| 申请号： | 200910057630.1 | 申请日： | 2009-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN101963766A | 公开（公告）日： | 2011-02-02 |
| 发明（设计）人： | 张品祥 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于光刻机的掩模预对准装置，包括光源；对光源发出的光进行准直的准直透镜；位于掩模板上的第一预对准标记和第二预对准标记；双远心成像系统；图像传感器和信号处理系统；其中，经准直透镜准直的光穿过第一预对准标记后由半透半反棱镜反射至双远心成像系统，并经由双远心成像系统成像于图像传感器上；经准直透镜准直的光穿过第二预对准标记后由反射棱镜反射后透过半透半反棱镜入射至双远心成像系统，并经由双远心成像系统成像于图像传感器上；信号处理系统对图像传感器上所成的像进行处理，并将处理结果反馈至掩模运动系统。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 掩模预 对准 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻机的掩模预对准装置，包括：第一光源和第二光源；分别对第一光源和第二光源发出的第一光束和第二光束进行准直的第一准直单元和第二准直单元；位于掩模板上的第一预对准标记和第二预对准标记；双远心成像系统；图像传感器和信号处理系统；其中，经第一准直单元准直的第一光束穿过第一预对准标记后由半透半反棱镜反射至双远心成像系统，并经由双远心成像系统成像于图像传感器上；经第二准直单元准直的第二光束穿过第二预对准标记后由反射棱镜反射后透过半透半反棱镜入射至双远心成像系统，并经由双远心成像系统成像于图像传感器上；信号处理系统对图像传感器上所成的像进行处理，并将处理结果反馈至掩模运动系统，由掩模运动系统控制掩模运动，并重复上述成像、处理、反馈和运动过程，直至实现预对准。
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