[发明专利]俄歇电子能谱仪检测样品的表面处理方法有效
申请号: | 200910055898.1 | 申请日: | 2009-08-04 |
公开(公告)号: | CN101988911A | 公开(公告)日: | 2011-03-23 |
发明(设计)人: | 齐瑞娟 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G01N23/227 | 分类号: | G01N23/227;G01N1/28 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 20120*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明揭露了一种俄歇电子能谱仪检测样品的表面处理方法,该方法包括如下步骤:提供俄歇电子能谱仪检测样品;利用稀有气体离子溅射所述俄歇电子能谱仪检测样品表面。该方法简单实用,成本低,可快速有效的减小荷电效应,并且对需要进行组分分析的检测样品表面不会产生损坏,确保获取准确的检测样品表面组分分析结果,提高了产品良率。 | ||
搜索关键词: | 电子 能谱仪 检测 样品 表面 处理 方法 | ||
【主权项】:
一种俄歇电子能谱仪检测样品的表面处理方法,包括:提供一俄歇电子能谱仪检测样品;利用稀有气体离子溅射所述俄歇电子能谱仪检测样品表面。
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