[发明专利]相变存储器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910054957.3 申请日: 2009-07-16
公开(公告)号: CN101958337A 公开(公告)日: 2011-01-26
发明(设计)人: 洪中山;何其旸 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L45/00;H01L21/82;C23F1/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李丽
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种相变存储器及其制造方法,其中相变存储器包括:字线、位线以及相变存储单元,选通管;所述相变存储单元包括底部电极、顶部电极、以及底部电极与顶部电极之间的相变层;所述选通管一端与字线电连接,另一端与底部电极电连接,所述顶部电极与位线电连接;所述底部电极与相变层连接的一端呈倒锥形,且锥顶与相变层形成欧姆接触。与现有的相变存储器相比,本发明所述相变存储器在同等驱动电流下底部电极对相变层具有更优异的加热效果,从而提高了相变存储器的读写速度。
搜索关键词: 相变 存储器 及其 制造 方法
【主权项】:
一种相变存储器,其特征在于,包括:字线、位线以及相变存储单元,选通管;所述相变存储单元包括底部电极、顶部电极、以及底部电极与顶部电极之间的相变层;所述选通管一端与字线电连接,另一端与底部电极电连接,所述顶部电极与位线电连接;所述底部电极与相变层连接的一端呈倒锥形,且锥顶与相变层形成欧姆接触。
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