[发明专利]基于振荡-补光策略的新型光合生物制氢工艺有效
| 申请号： | 200910048227.2 | 申请日： | 2009-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN101845460A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | 王永红;张明;李旭;张嗣良;张波;储炬;庄英萍;鲍杰 | 申请（专利权）人： | 华东理工大学 |
| 主分类号： | C12P3/00 | 分类号： | C12P3/00;C12R1/01 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 徐迅 |
| 地址： | 20023*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于振荡-补光策略的新型光合生物制氢工艺。具体地，本发明提供了一种利用光合细菌制造氢气方法，包括步骤：(a)在非静置状态和光照强度I1的初始入射光照射下，培养产氢的光合细菌，其中所述初始入射光的光照强度I1满足以下条件：(i)I1＞I0，式中I0是静置培养时初始入射光的最适光照强度；(ii)在所述光照强度I1下，培养体系中至少70％区域(或体积)所受的实际光照强度I1′大于或等于在静置培养所述下同一区域(或体积)所受的实际光照强度I0′；(b)从培养体系中分离出产生的氢气。本发明方法可有效提高光合细菌制氢的效率，缩短产氢的周期并维持很高的底物转化率。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 振荡 策略 新型 光合 生物 工艺 | ||
【主权项】：
一种利用光合细菌制造氢气方法，其特征在于，包括步骤：(a)在非静置状态和光照强度I1的初始入射光照射下，培养产氢的光合细菌，其中所述的初始入射光的光照强度I1满足以下条件：(i)I1＞I0式中，I0是静置培养所述光合细菌时初始入射光的最适光照强度；(ii)在所述光照强度I1下，在非静置培养的光合细菌的培养体系中，至少70％区域(或体积)所受到的实际光照强度I1′大于或等于在静置培养所述光合细菌时在最适光照强度I0的初始入射光照射下同一区域(或体积)所受到的实际光照强度I0′；(b)从培养体系中分离出所述光合细菌所产生的氢气。
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