[发明专利]基底倾斜和基石倾斜的测量方法和系统有效
| 申请号： | 200910045745.9 | 申请日： | 2009-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN101482399A | 公开（公告）日： | 2009-07-15 |
| 发明（设计）人： | 王献英 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/26 | 分类号： | G01B11/26 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种应用于投影光刻系统调焦调平的基底倾斜和基石倾斜的测量方法和系统。本发明所公开的方法和系统不需进行曝光，通过在基底上X、Y方向等距选取多点，利用基底倾斜和基石倾斜测量系统进行测量，然后利用测量数据进行拟合计算得到基底倾斜值和基石倾斜值。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 倾斜 基石 测量方法 系统 | ||
【主权项】：
1. 一种基底倾斜和基石倾斜的测量方法，应用于投影光刻系统的调焦调平，其特征在于，包括：在基底上表面的X，Y方向等距选取多个测量点，确定所述测量点的坐标值；利用工件台水平向控制系统控制工件台水平运动；利用工件台垂向控制系统控制工件台垂向运动；利用工件台夹持所述基底并带动所述基底移动，使所述基底上的多个测量点运动到光轴处，其中所述工件台沿基石上表面移动；利用调焦调平传感器对位于光轴下的测量点进行测量，得到所述测量点相对最佳焦面的高度值和倾斜值；利用所述多个测量点的高度值和坐标值，计算得到所述基底上表面的拟合平面系数；利用所述基底上表面的拟合平面系数，计算得到基底倾斜值，其中所述基底倾斜值为所述拟合平面与所述基底下表面之间的倾斜值；利用所述基底倾斜值和所述多个测量点的倾斜值，计算得到基石倾斜值，其中所述基石倾斜值为所述基石上表面与最佳焦面之间的倾斜值。
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