[发明专利]多通道滤波器及其设计方法有效
| 申请号： | 200910040858.X | 申请日： | 2009-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN101587210A | 公开（公告）日： | 2009-11-25 |
| 发明（设计）人： | 金崇君;饶文媛 | 申请（专利权）人： | 中山大学 |
| 主分类号： | G02B6/34 | 分类号： | G02B6/34 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈燕娴;黄 磊 |
| 地址： | 510275广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一维多层膜结构的多通道滤波器及其设计方法，其设计方法如下：在多层膜结构中掺入一个中心缺陷层C或至少两个完全相同的缺陷层C，以及两个侧边缺陷层D；侧边缺陷层D与缺陷层C间隔N个周期的介质膜，N大于或等于6；调节缺陷层C的参数，使多层膜结构形成M通道滤波器；设置侧边缺陷层D的光学厚度使得两个侧边缺陷层D产生的1个或2～(M-1)个缺陷模，分别与M通道滤波器的1个或2～(M-1)个通道位置重叠。与以往的设计方法相比，本发明提出的方法可以独立地调节各通道位置和Q值，更适合于多通道滤波器的设计。 | ||
| 搜索关键词： | 通道 滤波器 及其 设计 方法 | ||
【主权项】：
1.多通道滤波器的设计方法，其特征在于包括以下几个步骤：步骤101，在第一介质层A与第二介质层B交替堆叠的多层膜结构中掺入一个中心缺陷层C或至少两个位于多层膜结构中部的完全相同的缺陷层C，再在多层膜结构中远离缺陷层C的两端对称地掺入两个侧边缺陷层D；第一介质层A与第二介质层B的折射率比大于1.1，两相邻的第一介质层A与第二介质层B组成一个周期的介质膜；侧边缺陷层D与缺陷层C间隔N个周期的介质膜，以避免侧边缺陷层D与缺陷层C发生相互耦合作用，其中N大于或等于6；步骤102，调节缺陷层C的参数，获得M个缺陷模，从而使多层膜结构形成M通道滤波器；然后设置侧边缺陷层D的光学厚度，使得两个侧边缺陷层D产生的1个或2～(M-1)个缺陷模，分别与M通道滤波器的1个或2～(M-1)个通道位置重叠。
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