[发明专利]利用PS球作模板制作发光二极管粗化表面的方法无效
| 申请号: | 200910018772.7 | 申请日: | 2009-09-17 |
| 公开(公告)号: | CN101656285A | 公开(公告)日: | 2010-02-24 |
| 发明(设计)人: | 郝霄鹏;夏伟;巩海波;吴拥中;徐现刚 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
| 主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
| 代理公司: | 济南圣达专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 王书刚 |
| 地址: | 250100山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | 本发明提供了一种利用PS球作模板制作发光二极管粗化表面的方法,包括以下步骤:(1)按常规外延生长外延片;(2)在外延生长的P型接触层上铺设一层由PS球紧密排布组成的单层膜;(3)以硅酸四乙酯、金属的氯化物或硝酸盐为前躯体,将前躯体、乙醇和水混合后填充在单层膜的PS球与P型接触层之间的间隙中,室温静置并加热分解为相应的氧化物;(4)将外延片置于二氯甲烷中,用二氯甲烷溶解去除掉PS球,在PS球与P型接触层之间的间隙中形成的氧化物按碗状周期排列结构保留在P型接触层上;(5)用形成的氧化物作掩膜,干法刻蚀P型接触层,形成粗化表面;(6)腐蚀掉残留的氧化物。本发明可得到刻蚀周期和深度可控的粗化LED表面。 | ||
| 搜索关键词: | 利用 ps 模板 制作 发光二极管 表面 方法 | ||
【主权项】:
1.一种利用PS球作模板制作发光二极管粗化表面的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)按常规利用金属有机化学气相沉积的方法在衬底上依次外延生长N型接触层、多量子阱有源区和P型接触层,形成外延片;(2)在外延生长的P型接触层上铺设一层由PS球紧密排布组成的单层膜,PS球的直径为100nm--1000nm;(3)以硅酸四乙酯、金属Zn、Al、Fe、Co、Ni、In、Sn、Ti的氯化物或硝酸盐为前躯体,将前躯体、乙醇和水按质量比为1∶4∶20的比例混合后填充在单层膜的PS球与P型接触层之间的间隙中,室温静置72小时;如果前躯体为硅酸四乙酯,在静置过程中金属有机物水解为二氧化硅,乙醇和水挥发掉,并在静置后将外延片置于干燥箱中于100℃干燥1小时;如果前躯体为上述金属的氯化物或硝酸盐,静置过程是乙醇和水挥发的过程,并在静置后将外延片在500℃加热1小时,使氯化物或硝酸盐分解为相应的氧化物;(4)将外延片置于二氯甲烷中,用二氯甲烷溶解去除掉PS球,在PS球与P型接触层之间的间隙中形成的氧化物按碗状周期排列结构保留在P型接触层上;(5)用形成的氧化物作掩膜,干法刻蚀P型接触层,形成粗化表面;其中干法刻蚀采用的刻蚀气体为三氯化硼和氯气,流量分别为25sccm和15sccm,ICP和RF功率分别为300和50W,刻蚀腔体内压强为10mTorr;(6)采用HF、NH3F和水按质量比为3∶6∶20的比例混合而成的腐蚀液腐蚀掉残留的氧化物。
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