[发明专利]聚焦线圈修复再利用的方法有效
| 申请号： | 200910005386.4 | 申请日： | 2009-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN101519767A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;周友平;汪涛;刘庆 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李 丽 |
| 地址： | 315400浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种聚焦线圈修复再利用的方法，包括：在已使用过的聚焦线圈上的固定孔内壁涂覆保护膜；对所述聚焦线圈进行腐蚀，以去除所述聚焦线圈外环表面附着的溅射材料；在所述聚焦线圈的外环表面涂覆保护膜；继续对所述聚焦线圈进行腐蚀，以去除所述聚焦线圈内环表面附着的溅射材料；去除所述聚焦线圈表面的保护膜；对所述聚焦线圈内环表面进行粗糙处理；对所述聚焦线圈进行清洗，以去除粗糙处理所产生的残留物。通过所述方法，所述聚焦线圈可再次利用于物理气相沉积中，从而节约了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 线圈 修复 再利用 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种聚焦线圈修复再利用的方法，其特征在于，包括：在已使用过的聚焦线圈上的固定孔内壁涂覆保护膜；对所述聚焦线圈进行腐蚀；在去除所述聚焦线圈的外环表面附着的溅射材料后，在所述外环表面涂覆保护膜；继续对所述聚焦线圈进行腐蚀；在去除所述聚焦线圈的内环表面附着的溅射材料后，去除所述固定孔内壁以及所述外环表面的保护膜；对所述聚焦线圈内环表面进行粗糙处理；对所述聚焦线圈进行清洗，以去除粗糙处理所产生的残留物。
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