[发明专利]用于基板的金属层减厚方法及电解槽有效

专利信息
申请号: 200910003356.X 申请日: 2009-01-16
公开(公告)号: CN101781790A 公开(公告)日: 2010-07-21
发明(设计)人: 翁肇甫;王昱祺 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: C25F7/00 分类号: C25F7/00;C25F3/00;H05K3/04
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 代理人: 翟羽
地址: 中国台湾高雄*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种用以将金属层减厚的电解槽,其包含一电解液及至少一对阳极及阴极。所述阳极及阴极都位于所述电解液内,其中所述阳极具有一圆柱滚轮的外形,且所述金属层接触所述阳极。
搜索关键词: 用于 金属 层减厚 方法 电解槽
【主权项】:
一种电解槽,其特征在于:所述电解槽包含:一电解液;以及至少一对阳极及阴极,都位于所述电解液内,其中所述阳极具有一圆柱滚轮的外形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910003356.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top