[发明专利]将含氧还原剂提供到排放物处理系统的系统和方法无效

专利信息
申请号: 200880124700.4 申请日: 2008-12-16
公开(公告)号: CN101910575A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: B·H·温克勒;D·汉库;F·维特塞;N·西尔维;王华;刘科 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: F01N3/20 分类号: F01N3/20
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 徐晶;林毅斌
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供一种将还原剂提供到排放物处理装置(32)的方法,所述方法包括将第一预混燃料流(14)提供到发动机(12),其中所述发动机构造成产生排气流(30)。将第二预混燃料流(20)提供到分离装置(18),其中第一预混燃料流和第二预混燃料流(14,20)各自包含含氧还原剂成分和主要燃料成分。使至少一部分第二预混燃料流通过分离装置分离成第一分流(42)和第二分流(44),其中第一分流包含比第二分流更高浓度的含氧还原剂成分,并且将第一分流提供到排放物处理装置以处理排气流。本发明进一步提供进行所述方法的系统。
搜索关键词: 将含氧 还原剂 提供 排放 处理 系统 方法
【主权项】:
一种将还原剂提供到排放物处理装置的系统,所述系统包括:燃料箱,所述燃料箱适合直接或间接提供第一预混燃料流和第二预混燃料流,各燃料流包含主要燃料成分和含氧还原剂成分;与燃料箱流体连通的发动机,其中所述发动机构造成接收第一预混燃料流并产生排气流;处理所述排气流的排放物处理装置;构造成接收第二预混燃料流的分离装置,所述分离装置还构造成将第二预混燃料流分离成第一分流和第二分流,并且将第一分流提供到所述排放物处理装置,其中第一分流包含比第二分流更高浓度的还原剂成分。
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