[发明专利]光电子装置和图像记录设备有效
| 申请号: | 200880122514.7 | 申请日: | 2008-11-26 |
| 公开(公告)号: | CN101903819A | 公开(公告)日: | 2010-12-01 |
| 发明(设计)人: | 朱利叶斯·穆沙韦克;乌尔里希·施特雷佩尔 | 申请(专利权)人: | 欧司朗光电半导体有限公司 |
| 主分类号: | G02B7/32 | 分类号: | G02B7/32;G02B3/00;G02B7/28 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李德山;许伟群 |
| 地址: | 雷根*** | 国省代码: | 德国;DE |
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| 摘要: | 在光电子装置(10)的至少一个实施形式中,该光电子装置具有光学元件(1)和适于产生电磁辐射(R)的光电子半导体芯片(2)。该光学元件(1)单件式地构建并且包含两个彼此对置的辐射穿透面(34)。此外该光学元件(1)包括带有多个彼此邻接的透镜区域(6)的透镜装置(5),其中透镜装置(5)成形在辐射穿透面(34)之一中,并且另外的辐射穿透面(34)平滑地实施。此外,透镜区域(6)设计并且布置为使得通过光学元件(1)的辐射以不同的圆柱形的波前和/或彼此分离的波前或者射束(S)成形。 | ||
| 搜索关键词: | 光电子 装置 图像 记录 设备 | ||
【主权项】:
1.一种光电子装置(10),具有光学元件(1)和适于产生电磁辐射的光电子半导体芯片(2),其中光学元件(2)-单件式地构建,-包含两个彼此对置的辐射穿透面(34),-具有透镜装置(5),该透镜装置带有多个彼此邻接的透镜区域(6),其中透镜装置(5)成形在辐射穿透面(34)之一中并且另外的辐射穿透面(34)平滑地实施,以及其中透镜区域(6)设计并且布置为使得通过光学元件(1)的辐射以不同的圆柱形的波前和/或彼此分离的波前成形。
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