[发明专利]带有具有1H-四唑基团的成分的可成像元件有效
| 申请号： | 200880118874.X | 申请日： | 2008-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN101884014A | 公开（公告）日： | 2010-11-10 |
| 发明（设计）人： | H·鲍曼;U·德瓦斯;B·施特勒梅尔;C·辛普森;C·萨瓦里亚-豪克;G·豪克 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G03F7/033 | 分类号： | G03F7/033;B41C1/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 韦欣华;李炳爱 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 辐射敏感组合物和可成像元件包括在可成像层中的聚合物或非聚合物组分，该组分包括1H-四唑基团。非聚合物组分可以为可自由基聚合化合物。聚合物组分可以具有挂在主链上的1H-四唑基团。在负片型或正片型可成像元件中使用这些成分提供了高曝光速度和改进的可显影性，以提供具有改进的耐化学品性和耐印力的成像后或显影后元件，例如平板印版。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 具有 基团 成分 成像 元件 | ||
【主权项】：
一种可成像元件，其包含其上具有可成像层的基板，所述可成像层包括具有1H-四唑基团的水不溶性而碱性溶液可溶的成分，条件是，当所述成分是具有连接在其上的1H-四唑基团的酚醛聚合物时，所述连接不是由硫连接基团提供的。
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