[发明专利]用以控制感应耦合等离子体室中边缘表现的设备与方法

摘要

本发明一般地提供在处理过程中控制边缘表现的方法与设备。本发明一个实施例提供的设备包括界定处理空间的腔室主体、设置以将处理气体流入处理空间的气体入口、及配置于处理空间中的支撑底座。支撑底座包括顶部平板，其具有设置以于背侧上接收并支撑基板的基板支撑表面、与设置以沿着基板的外边缘围绕基板的边缘表面，而基板的顶表面与边缘表面间的高度差用来控制基板的边缘区域对处理气体的暴露。

主权项

一种处理基板的设备，包括：腔室主体，界定处理空间；气体入口，设置以将处理气体流入该处理空间中；及支撑底座，配置于该处理空间中，其中该支撑底座包括顶部平板，该顶部平板具有设置以于背侧上接收并支撑该基板的基板支撑表面、及设置以沿着该基板的外边缘围绕该基板的边缘表面，其中该基板的顶表面与该边缘表面间的高度差用来控制该基板的边缘区域对该处理气体的暴露。