[发明专利]用于X射线相位对比成像的探测装置有效
| 申请号： | 200880117618.9 | 申请日： | 2008-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN101873828A | 公开（公告）日： | 2010-10-27 |
| 发明（设计）人： | T·克勒 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及用于生成对象(1)的相位对比度X射线图像的方法和设备。该设备包括X射线源(10)，其例如可由光栅(G0)之后的空间延伸发射器(11)实现。衍射光学元件(DOE)，例如相位光栅(G1)，从已经经过该对象(1)的X辐射中生成干涉图样(I)，并且谱分辨X射线探测器(30)用于测量该DOE之后的这一干涉图样。使用在不同波长/能量的X辐射下获得的信息，可以重建由该对象引起的相移。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 射线 相位 对比 成像 探测 装置 | ||
【主权项】：
一种用于生成对象(1)的相位对比图像的X射线设备(100)，包括-X射线源(10)；-衍射光学元件(G1)，称为DOE，其暴露于所述X射线源(10)；-谱分辨X射线探测器(30)，其用于探测由所述DOE(G1)生成的干涉图样(I)。
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