[发明专利]含环氧基的有机硅氧烷化合物、转印材料用固化性组合物和使用该组合物的微细图案形成方法无效
| 申请号： | 200880114939.3 | 申请日： | 2008-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN101848915A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | 森中克利;新井良和;内田博;藤田俊雄 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C07F7/21 | 分类号： | C07F7/21;C08G59/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于一种转印材料用固化性组合物，其适合用于可以以高生产量形成微细图案的工艺即紫外纳米压印法；并且有时适合用于热纳米压印法；而且可以形成氟类气体和氧气气体的蚀刻速度选择性高的微细图案。本发明的转印材料用固化性组合物，其特征在于，含有具有Si-H基的硅化合物(A)与具有固化性官能团和除该固化性官能团以外的其它碳碳双键的化合物(B)加成进行硅氢化反应所得化合物的固化性硅化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 含环氧基 有机硅 化合物 材料 固化 组合 使用 微细 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.下述通式(1)、(2)或(3)所示的含环氧基的有机硅氧烷化合物：![]()
上述式(1)～(3)中，R11是氢原子或甲基，R12是氢原子、甲基或苯基，R13是氢原子或甲基，R14、R15各自独立地是取代或非取代的碳原子数1～10的一价烃基，R16、R17各自独立地是取代或非取代的碳原子数1～10的一价烃基或下述通式(4)所示的一价烃基，R18是氢原子、甲基、乙基或苯基，n、q是1以上的整数，p是0以上的整数，m是3～6的整数；![]()
上述式(4)中，R11是氢原子或甲基，R12是氢原子、甲基或苯基，R13是氢原子或甲基，*表示直接键合。
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