[发明专利]用于确定抑制系统的抑制因子的方法和系统以及光刻设备有效
| 申请号： | 200880114854.5 | 申请日： | 2008-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN101849211A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | H·G·希梅尔;T·A·R·范埃姆皮尔;G·H·P·M·斯温凯尔斯;M·A·M·哈斯特;D·拉拜特斯基;J·M·弗瑞里克斯;Y·J·G·范德维基沃尔;W·J·M·沃尔斯蒂哥;P·G·约克尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于确定抑制系统的抑制因子的方法。所述抑制系统布置用以抑制污染物气体迁移出第一系统。所述抑制因子指示所述抑制系统的性能。所述方法包括：引入示踪气体到所述第一系统中；提供检测系统，其配置用以检测已经迁移出所述第一系统的示踪气体的量；确定所述抑制系统对所述示踪气体的第一抑制因子。所述方法还包括基于所述第一抑制因子确定所述抑制系统对所述污染物气体的第二抑制因子。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 抑制 系统 因子 方法 以及 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种用于确定抑制系统的抑制因子的方法，所述抑制系统布置用以抑制污染物气体迁移出第一系统，所述抑制因子指示所述抑制系统的性能，所述方法包括步骤：引入示踪气体到所述第一系统中；检测已经迁移出所述第一系统的示踪气体的量；确定所述抑制系统对所述示踪气体的第一抑制因子；和基于所述第一抑制因子确定所述抑制系统对所述污染物气体的第二抑制因子。
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