[发明专利]试样的分析方法及其装置有效

专利信息
申请号: 200880110609.7 申请日: 2008-10-29
公开(公告)号: CN101821610A 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 藤本浩司;篠嵜耕太郎;北村茂 申请(专利权)人: 爱科来株式会社
主分类号: G01N21/78 分类号: G01N21/78;G01N21/05;G01N33/49
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种试样分析方法,其包括将光照射到分析工具的反应用池(34A)的试样(BL)与试剂(40)的反应部分以取得显示了该部分的光学特性的数据(D0)的步骤,该方法进一步包括:在将试样(BL)供给到没有设置试剂(40)的池(34B)的状态下照射光以获得显示了该部分的光学特性的参照数据(D1)的步骤,将光照射到与所述分析工具当中形成了池(34B)的部分相比除了池的有无以外其截面结构大致相同的基准部(34C)上,取得显示了该部分的光学特性的参照数据(D2)的步骤,以及根据参照数据(D1)、(D2),求出显示了与试剂(40)反应之前的试样(BL)的光学特性的数据(D3)的步骤。
搜索关键词: 试样 分析 方法 及其 装置
【主权项】:
一种试样的分析方法,其特征在于,其为包括以下步骤的试样分析方法:使用具有设置了试剂的至少一个反应用池的分析工具,通过将试样供给所述反应用池而形成该试样与所述试剂的反应部时,将光照射到所述反应部,取得显示了所述反应部的光学特性的数据,所述方法包括下述步骤:在所述分析工具中形成不设置试剂的参照用池,且在将试样供给到该参照用池的状态下,将光照射到所述参照用池,取得显示了该部分的光学特性的第一参照数据的步骤;在所述分析工具当中,将属于没有形成所述反应用池和参照用池的部位的、与所述参照用池的形成部位相比除了池的有无以外截面结构大致相同的部位规定为基准部,且将光照射到该基准部,取得显示了该部分的光学特性的第二参照数据的步骤;以及根据所述第一参照数据和第二参照数据,求出显示了与所述试剂反应之前的所述试样的光学特性的未反应试样的数据的步骤。
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