[发明专利]利用经氨基硅烷处理的研磨剂颗粒的抛光组合物和方法有效
| 申请号： | 200880108217.7 | 申请日： | 2008-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN101802116A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | 史蒂文·格鲁姆比恩;李守田;威廉·沃德;潘卡耶·辛格;杰弗里·戴萨德 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明方法包括用本发明抛光组合物对基材进行化学-机械抛光，该抛光组合物包含液体载体和经化合物处理的研磨剂颗粒。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 氨基 硅烷 处理 研磨剂 颗粒 抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
对基材进行化学-机械抛光的方法，所述方法包括：(i)使基材与化学-机械抛光组合物接触，所述抛光组合物包含：(a)液体载体，(b)悬浮于所述液体载体中的研磨剂，其中所述研磨剂包括具有经选自氨基硅烷化合物、鏻硅烷化合物和锍硅烷化合物的化合物处理的表面的金属氧化物颗粒，和(c)选自膦酸和含硼酸的酸，(ii)使所述抛光组合物相对于所述基材移动，和(iii)磨除所述基材的至少一部分以抛光所述基材。
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