[发明专利]含有卤素的二萘嵌苯四甲酸衍生物及其用途有效

专利信息
申请号: 200880103620.0 申请日: 2008-08-13
公开(公告)号: CN101809116A 公开(公告)日: 2010-08-18
发明(设计)人: M·克内曼;G·麦特恩;G·韦伯 申请(专利权)人: 巴斯夫欧洲公司
主分类号: C09K11/06 分类号: C09K11/06
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 刘金辉;林柏楠
地址: 德国路*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及式(I)化合物,其中Y1和Y2各自为O或NRa或NRb,其中Ra和Rb为H或有机基团;Z1-Z4为O或S;R11-R14,R21-R24为Cl、F;其中R11-R14,R21-R24基团中的1或2个也可为CN和/或R11-R14,R21-R24基团中的1个可为H;以及其中当Y1为NRa时,Z1或Z2也可为NRc,其中Ra和Rc一起为具有2-5个原子的桥连基团X;以及其中当Y2为NRb时,Z3或Z4也可为NRd,Rb和Rd一起为具有2-5个原子的桥连基团X;一种制备它们的方法,及其作为发射体材料、电荷输送材料或激子输送材料的用途。
搜索关键词: 含有 卤素 二萘嵌苯四 甲酸 衍生物 及其 用途
【主权项】:
1.通式(I)化合物作为发射体材料、电荷输送材料或激子输送材料的用途:其中Y1为O或NRa,其中Ra为氢或有机基团,Y2为O或NRb,其中Rb为氢或有机基团,Z1、Z2、Z3和Z4各自为O或S,和R11、R12、R13、R14、R21、R22、R23和R24基团各自为氯和/或氟,其中R11、R12、R13、R14、R21、R22、R23和R24基团中的1或2个也可为CN和/或R11、R12、R13、R14、R21、R22、R23和R24基团中的一个可为氢,和其中,在Y1为NRa的情况下,Z1和Z2基团中的一个也可为NRc,其中Ra和Rc基团一起为在连接键之间具有2-5个原子的桥连基团X,和其中在Y2为NRb的情况下,Z3和Z4基团中的一个也可为NRd,其中Rb和Rd基团一起为在连接键之间具有2-5个原子的桥连基团X。
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