[发明专利]含有卤素的二萘嵌苯四甲酸衍生物及其用途有效
申请号: | 200880103620.0 | 申请日: | 2008-08-13 |
公开(公告)号: | CN101809116A | 公开(公告)日: | 2010-08-18 |
发明(设计)人: | M·克内曼;G·麦特恩;G·韦伯 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | C09K11/06 | 分类号: | C09K11/06 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 刘金辉;林柏楠 |
地址: | 德国路*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明涉及式(I)化合物,其中Y1和Y2各自为O或NRa或NRb,其中Ra和Rb为H或有机基团;Z1-Z4为O或S;R11-R14,R21-R24为Cl、F;其中R11-R14,R21-R24基团中的1或2个也可为CN和/或R11-R14,R21-R24基团中的1个可为H;以及其中当Y1为NRa时,Z1或Z2也可为NRc,其中Ra和Rc一起为具有2-5个原子的桥连基团X;以及其中当Y2为NRb时,Z3或Z4也可为NRd,Rb和Rd一起为具有2-5个原子的桥连基团X;一种制备它们的方法,及其作为发射体材料、电荷输送材料或激子输送材料的用途。 |
||
搜索关键词: | 含有 卤素 二萘嵌苯四 甲酸 衍生物 及其 用途 | ||
【主权项】:
1.通式(I)化合物作为发射体材料、电荷输送材料或激子输送材料的用途:
其中Y1为O或NRa,其中Ra为氢或有机基团,Y2为O或NRb,其中Rb为氢或有机基团,Z1、Z2、Z3和Z4各自为O或S,和R11、R12、R13、R14、R21、R22、R23和R24基团各自为氯和/或氟,其中R11、R12、R13、R14、R21、R22、R23和R24基团中的1或2个也可为CN和/或R11、R12、R13、R14、R21、R22、R23和R24基团中的一个可为氢,和其中,在Y1为NRa的情况下,Z1和Z2基团中的一个也可为NRc,其中Ra和Rc基团一起为在连接键之间具有2-5个原子的桥连基团X,和其中在Y2为NRb的情况下,Z3和Z4基团中的一个也可为NRd,其中Rb和Rd基团一起为在连接键之间具有2-5个原子的桥连基团X。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于巴斯夫欧洲公司,未经巴斯夫欧洲公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200880103620.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:图像形成装置
- 下一篇:改良的涂覆药物的医药产品及其制造和应用