[发明专利]用于改善闪烁探测器中光收集的反射器和光准直器布置在审
| 申请号： | 200880103114.1 | 申请日： | 2008-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN101779145A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | V·舒尔茨;C·德根哈特;J·J·格里斯默;S·E·库克 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01T1/20 | 分类号： | G01T1/20;G01T1/202 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在核成像中，在伽马射线撞击闪烁体时，生成可见光脉冲。该光被光电探测器探测到并由下游的电子器件进行处理。人们希望尽可能多地支配光脉冲，使其到达光电探测器。在探测器元件(18)中，第一反射层(44)部分地包封闪烁晶体(34)。第一反射层(44)使闪烁光漫射。第二反射层(46)和支撑部件反射层(48)防止光通过除闪烁体(34)的光发射面(36)之外的任何路线离开闪烁晶体(34)。在另一实施例中，光集中器(50)耦合到闪烁体(34)并将漫射光传导到光电探测器(38)的光敏部分。反射层(44，46，48)和集中器(50)确保全部或几乎全部由闪烁体(34)发射的光都被光电探测器(38)接收到。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 改善 闪烁 探测器 收集 反射 光准直器 布置 | ||
【主权项】：
一种辐射探测器阵列，包括：响应于辐射发射光脉冲的多个闪烁晶体(34)，任选地为铯掺杂正硅酸钇镥(LYSO)；多个光电探测器(38)，任选地为硅光电倍增器(SiPM)，每个光电探测器(38)均具有光敏区域(40)，所述光敏区域具有光学地耦合到至少一个闪烁晶体(34)的光发射面(36)的至少一个光耦合元件；第一反射层(44)，任选地为聚四氟乙烯、聚全氟乙烯丙烯和全氟烷氧基聚合树脂中的一个，其至少部分围住每个闪烁晶体(34)，所述第一反射层(44)漫反射由所述闪烁晶体(34)发射的光中入射到所述第一反射层(44)上的第一部分并透过所发射光中的第二部分；与所述第一反射层(44)相邻的第二反射层(46)，任选地为介质支撑上的镜面反射器，例如溅镀在聚酯薄膜上的铝或者由抛光的金属片制成的镜面反射器，用于将已经透过所述第一反射层(44)的光反射回所述第一反射层(44)和所述闪烁晶体(34)。
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