[发明专利]用于光敏装置的透镜对准方法及设备以及其实施系统无效

专利信息
申请号: 200880102624.7 申请日: 2008-08-05
公开(公告)号: CN101779289A 公开(公告)日: 2010-07-14
发明(设计)人: 马克·E·塔特尔 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 沈锦华
地址: 美国爱*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 将不对称地定位的透镜与半导体装置一起使用,所述半导体装置包含不对称地定位于其表面上的光学活性区。所述透镜的光轴与所述光学活性区的中心对准。可制造半导体装置及透镜的晶片级组合件,将其与对准于所述不对称地放置的光学活性区上方的所述不对称地放置的透镜互相紧固,且对其进行单一化以形成封装,例如图像传感器封装。本发明还揭示相关方法以及并入有具有不对称地放置的光学活性区及经对准透镜的装置的系统。
搜索关键词: 用于 光敏 装置 透镜 对准 方法 设备 以及 实施 系统
【主权项】:
一种用于形成图像传感器封装的方法,其包含:将透镜固定于图像传感器裸片上方,所述图像传感器裸片具有不对称地定位于其上的成像器阵列,其中所述透镜与所述成像器阵列光学对准。
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