[发明专利]氧代吡嗪衍生物及除草剂有效
| 申请号: | 200880100263.2 | 申请日: | 2008-07-31 |
| 公开(公告)号: | CN101778832A | 公开(公告)日: | 2010-07-14 |
| 发明(设计)人: | 玉井龙二;伊藤稔;小林方美;光成崇;中野勇树 | 申请(专利权)人: | 组合化学工业株式会社;庵原化学工业株式会社 |
| 主分类号: | C07D241/44 | 分类号: | C07D241/44;A01N43/60;A01N43/653;A01N43/66;A01N43/80;A01N43/84;A01N43/90;A01N47/02;A01P13/00;C07D471/04 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 张淑珍;王维玉 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: |
本发明提供具有优越除草活性且对有用作物等呈现高安全性的氧代吡嗪衍生物或其盐、以及含有其的除草剂。本发明涉及如下通式[I]所示的氧代吡嗪衍生物或其盐,以及含有这些化合物的除草剂。 |
||
| 搜索关键词: | 氧代吡嗪 衍生物 除草剂 | ||
【主权项】:
1.一种通式[I]所示的氧代吡嗪衍生物或其农药上可接受的盐,该通式[I]是:
式中,X1表示:氧原子或硫原子;X2表示:CH,其中该碳原子可由R2取代;或N(O)m;m表示:0或1的整数;R1表示:氢原子;C1~C12烷基;C2~C6烯基;C2~C6炔基;C3~C8环烷基;C3~C8环烷基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基;C2~C6卤烯基;C2~C6卤炔基;C3~C8卤环烷基;C3~C8卤环烷基C1~C6烷基;氨基C1~C6烷基;硝基C1~C6烷基;单(C1~C6烷基)氨基C1~C6烷基;二(C1~C6烷基)氨基C1~C6烷基;C1~C6烷基硫基C1~C6烷基;C1~C6烷基亚磺酰基C1~C6烷基;C1~C6烷基磺酰基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基硫基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基亚磺酰基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基磺酰基C1~C6烷基;C1~C6烷氧基C1~C6烷基;羟基C1~C6烷基;苯基C1~C6烷氧基C1~C6烷基,其中该基中的苯基可由1或2个以上相同或相异的R4取代;C1~C6烷氧基C1~C6烷氧基C1~C6烷基;C3~C8环烷基氧基C1~C6烷基;C3~C8环烷基C1~C6烷氧基C1~C6烷基;苯氧基C1~C6烷基,其中该基中的苯基可由1或2个以上相同或相异的R4取代;具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至5个杂原子的碳数为2至10的杂环基氧基C1~C6烷基,其中该基中的具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至5个杂原子的碳数为2至10的杂环基可由1或2个以上相同或相异的R5取代;苯基硫基C1~C6烷基,其中该基中的苯基可由1或2个以上相同或相异的R4取代;苯基亚磺酰基C1~C6烷基,其中该基的苯基可由1或2个以上相同或相异的R4取代;苯基磺酰基C1~C6烷基,其中该基中的苯基可由1或2个以上相同或相异的R4取代;C1~C6卤烷氧基C1~C6烷基;具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至5个杂原子的碳数为2至10的杂环基C1~C6烷氧基C1~C6烷基,其中该基中的具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至5个杂原子的碳数为2至10的杂环基可由1或2个以上相同或相异的R5取代;C1~C6烷基硫基C1~C6烷氧基C1~C6烷基;C1~C6烷基亚磺酰基C1~C6烷氧基C1~C6烷基;C1~C6烷基磺酰基C1~C6烷氧基C1~C6烷基;氰基C1~C6烷氧基C1~C6烷基;氰基C1~C6烷基;C1~C6烷基羰氧基C1~C6烷基;C1~C6酰基C1~C6烷基;二(C1~C6烷氧基)C1~C6烷基;C1~C6烷氧基羰基C1~C6烷基;C1~C6烷氧基亚氨基C1~C6烷基;C1~C6亚烷基氨基氧基C1~C6烷基;(R6R7N-C=O)C1~C6烷基;C6~C10芳基C1~C6烷基,其中该基中的芳基可由1或2个以上相同或相异的R8取代;具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至5个杂原子的碳数为2至10的杂环基C1~C6烷基,其中该基中的具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至5个杂原子的碳数为2至10的杂环基可由1或2个以上相同或相异的R9取代;NR10R11基;C1~C6烷氧基;C6~C10芳基,其中该基可由1或2个以上相同或相异的R12取代;或具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至5个杂原子的碳数为2至10的杂环基,其中该基可由1或2个以上相同或相异的R13取代;R2表示:卤原子;羟基;硝基;氰基;C1~C6烷基;C3~C8环烷基;C3~C8环烷基C1~C6烷基;C2~C6烯基;C2~C6炔基;C1~C6卤烷基;C1~C6卤烯基;C1~C6卤炔基;C3~C8卤环烷基;C3~C8卤环烷基C1~C6烷基;C1~C6烷氧基;C3~C8环烷基氧基;C3~C8环烷基C1~C6烷氧基;C2~C6烯氧基;C2~C6炔氧基;C1~C6卤烷氧基;C1~C6烷氧基C1~C6烷氧基;C1~C6烷基羰氧基;C1~C6烷基硫基;C1~C6烷基亚磺酰基;C1~C6烷基磺酰基;C1~C6卤烷基硫基;C1~C6卤烷基亚磺酰基;C1~C6卤烷基磺酰基;氨基;单(C1~C6烷基)氨基;二(C1~C6烷基)氨基;C1~C6酰基氨基;羟基C1~C6烷基;C1~C6烷氧基C1~C6烷基;C1~C6烷基硫基C1~C6烷基;C1~C6烷基亚磺酰基C1~C6烷基;C1~C6烷基磺酰基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基硫基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基亚磺酰基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基磺酰基C1~C6烷基;氰基C1~C6烷基;C1~C6酰基;C1~C6烷氧基亚氨基C1~C6烷基;羧基;C1~C6烷氧基羰基;氨基甲酰基;单(C1~C6烷基)氨基羰基;二(C1~C6烷基)氨基羰基;或具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至5个杂原子的碳数为2至10的杂环基,其中该基中的具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至5个杂原子的碳数为2至10的杂环可由1或2个以上相同或相异的R14取代;另外,所述R2也可由相邻接的2个R2连接在一起、与各R2所直接键合的碳原子共同形成4至8元碳环或具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至4个杂原子的4至8元杂环,此时所形成的环可由卤原子、氰基、硝基、C1~C6烷基、C1~C6卤烷基、C1~C6烷氧基、C1~C6卤烷氧基或氧基取代;n表示:当X2是CH、其中所述基可由R2取代时,n表示0至4的整数;当X2是N(O)m时,n表示0至3的整数;R3表示:羟基;O-M+,其中M+表示碱金属阳离子或铵阳离子;氨基;卤原子;C1~C6烷基磺酰氧基;C1~C6烷基硫基;C1~C6烷基亚磺酰基;C1~C6烷基磺酰基;C1~C6卤烷基硫基;C1~C6卤烷基亚磺酰基;C1~C6卤烷基磺酰基;C2~C6烯基硫基;C2~C6烯基亚磺酰基;C2~C6烯基磺酰基;C2~C6炔基硫基;C2~C6炔基亚磺酰基;C2~C6炔基磺酰基;C1~C6烷基羰氧基;C2~C6烯基羰氧基;C2~C6炔基羰氧基;苯氧基,其中该基可由1或2个以上相同或相异的R14取代;苯基硫基,其中该基可由1或2个以上相同或相异的R14取代;苯基亚磺酰基,其中该基可由1或2个以上相同或相异的R14取代;苯基磺酰基,其中该基可由1或2个以上相同或相异的R14取代;苯基磺酰氧基,其中该基可由1或2个以上相同或相异的R14取代;苯基羰氧基,其中该基可由1或2个以上相同或相异的R14取代;1,2,4-三唑-1-基;1,2,3-三唑-1-基;1,2,3-三唑-2-基;咪唑-1-基;吡唑-1-基;四唑-1-基;或四唑-2-基;R4表示:卤原子;硝基;氰基;C1~C6烷基;C2~C6烯基;C2~C6炔基;C3~C8环烷基;C1~C6卤烷基;C1~C6烷氧基;C2~C6烯氧基;C2~C6炔氧基;C1~C6卤烷氧基;C1~C6烷基硫基;C1~C6烷基亚磺酰基;C1~C6烷基磺酰基;C1~C6卤烷基硫基;C1~C6卤烷基亚磺酰基;C1~C6卤烷基磺酰基;C1~C6烷氧基羰基;C1~C6酰基;或C1~C6烷氧基C1~C6烷基;R5表示:氧基;卤原子;硝基;氰基;C1~C6烷基;C2~C6烯基;C2~C6炔基;C3~C8环烷基;C1~C6卤烷基;C1~C6烷氧基;C2~C6烯氧基;C2~C6炔氧基;C1~C6卤烷氧基;C1~C6烷基硫基;C1~C6烷基亚磺酰基;C1~C6烷基磺酰基;C3~C6卤烷基硫基;C1~C6卤烷基亚磺酰基;C1~C6卤烷基磺酰基;C1~C6烷氧基羰基;C1~C6酰基;或C1~C6烷氧基C1~C6烷基;R6及R7相互独立,表示C1~C6烷基;另外,所述R6及R7也可连接在一起且与它们所键合的氮原子共同形成5至6元环,此时所形成的环中,除R6及R7所键合的氮原子以外,还可存在氧原子;R8表示:卤原子;硝基;氰基;C1~C6烷基;C2~C6烯基;C2~C6炔基;C3~C8环烷基;C1~C6卤烷基;C1~C6烷氧基;C2~C6烯氧基;C2~C6炔氧基;C1~C6卤烷氧基;C1~C6烷基硫基;C1~C6烷基亚磺酰基;C1~C6烷基磺酰基;C1~C6卤烷基硫基;C1~C6卤烷基亚磺酰基;C1~C6卤烷基磺酰基;C1~C6烷氧基羰基;C1~C6酰基;或C1~C6烷氧基C1~C6烷基;R9表示:氧基;卤原子;硝基;氰基;C1~C6烷基;C2~C6烯基;C2~C6炔基;C3~C8环烷基;C1~C6卤烷基;C1~C6烷氧基;C2~C6烯氧基;C2~C6炔氧基;C1~C6卤烷氧基;C1~C6烷基硫基;C1~C6烷基亚磺酰基;C1~C6烷基磺酰基;C1~C6卤烷基硫基;C1~C6卤烷基亚磺酰基;C1~C6卤烷基磺酰基;C1~C6烷氧基羰基;C1~C6酰基;或C1~C6烷氧基C1~C6烷基;R10及R11相互独立,表示氢原子;C1~C6烷基;或C1~C6烷氧基羰基;另外,所述R10及R11也可连接在一起且与它们所键合的氮原子共同形成5至6元环,此时所形成的环中,除R10及R11所键合的氮原子以外,还可存在硫原子和/或氧原子;R12表示:卤原子;羟基;硝基;氰基;C1~C6烷基;C3~C8环烷基;C3~C8环烷基C1~C6烷基;C2~C6烯基;C2~C6炔基;C1~C6卤烷基;C2~C6卤烯基;C3~C8卤环烷基;C3~C8卤环烷基C1~C6烷基:C1~C6烷氧基;C3~C8环烷基氧基;C2~C6烯氧基;C2~C6炔氧基;C1~C6烷基羰氧基;C1~C6卤烷氧基;C1~C6烷基硫基;C1~C6烷基亚磺酰基;C1~C6烷基磺酰基;C1~C6卤烷基硫基;C1~C6卤烷基亚磺酰基;C1~C6卤烷基磺酰基;氨基;C1~C6酰基氨基;单(C1~C6烷基)氨基;二(C1~C6烷基)氨基;羟基C1~C6烷基;C1~C6烷氧基C1~C6烷基;C1~C6烷基硫基C1~C6烷基;C1~C6烷基亚磺酰基C1~C6烷基;C1~C6烷基磺酰基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基硫基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基亚磺酰基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基磺酰基C1~C6烷基;氰基C1~C6烷基;C1~C6烷氧基C1~C6烷氧基;C3~C8环烷基C1~C6烷氧基;C1~C6卤烷氧基C1~C6烷氧基;氰基C1~C6烷氧基;C1~C6酰基;C1~C6烷氧基亚氨基C1~C6烷基;羧基;C1~C6烷氧基羰基;氨基甲酰基;单(C1~C6烷基)氨基羰基;二(C1~C6烷基)氨基羰基;具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至5个杂原子的碳数为2至10杂环基,其中该基的杂环可由1或2个以上相同或相异的R14取代;或具有从氧原子、硫原子及氮原子中任意选择的1至5个杂原子的碳数为2至10的杂环C1~C6烷氧基,其中该基中的具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至5个杂原子的碳数为2至10的杂环可由1或2个以上相同或相异的R14取代;另外,所述R12也可由相邻接的2个R12连接在一起且与各R12所直接键合的碳原子共同形成4至8元碳环或具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至4个杂原子的4至8元杂环,此时所形成的环可由卤原子、氰基、硝基、C1~C6烷基、C1~C6卤烷基、C1~C6烷氧基、C1~C6卤烷氧基或氧基取代;R13表示:氧基;硫酮基;羟基;卤原子;硝基;氰基;C1~C6烷基;C2~C6烯基;C2~C6炔基;C3~C8环烷基;C3~C8环烷基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基;C2~C6卤烯基;C3~C8卤环烷基;C3~C8卤环烷基C1~C6烷基;C1~C6烷氧基;C2~C6烯氧基;C2~C6炔氧基;C3~C8环烷基氧基;C3~C8环烷基C1~C6烷氧基;C1~C6卤烷氧基;C1~C6烷氧基C1~C6烷氧基;C1~C6卤烷氧基C1~C6烷氧基;氰基C1~C6烷氧基;C1~C6烷基羰氧基;C1~C6烷基硫基;C1~C6烷基亚磺酰基;C1~C6烷基磺酰基;C1~C6卤烷基硫基;C1~C6卤烷基亚磺酰基;C1~C6卤烷基磺酰基;氨基;单(C1~C6烷基)氨基;二(C1~C6烷基)氨基;C1~C6酰基氨基;羧基;C1~C6烷氧基羰基;氨基甲酰基;单(C1~C6烷基)氨基羰基;二(C1~C6烷基)氨基羰基;C1~C6酰基;C1~C6烷氧基亚氨基C1~C6烷基;C1~C6烷氧基C1~C6烷基;C1~C6烷基硫基C1~C6烷基;C1~C6烷基亚磺酰基C1~C6烷基;C1~C6烷基磺酰基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基硫基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基亚磺酰基C1~C6烷基;C1~C6卤烷基磺酰基C1~C6烷基;或氰基C1~C6烷基;另外,所述R13可由相邻接的2个R13连接在一起且与各R13所直接键合的碳原子共同形成4至8元碳环或具有选自氧原子、硫原子及氮原子中的1至4个杂原子的4至8元杂环,此时所形成的环可由卤原子、氰基、硝基、C1~C6烷基、C1~C6卤烷基、C1~C6烷氧基、C1~C6卤烷氧基或氧基取代;R14表示:卤原子、硝基、氰基、C1~C6烷基、C1~C6卤烷基、C1~C6烷氧基、或C1~C6卤烷氧基;A1表示:C(R15R16);A2表示:C(R17R18)、或C=O;A3表示:C(R19R20);R15、R16、R17、R18、R19及R20相互独立,表示氢原子或C1~C6烷基;另外,所述R15与R20也可连接在一起形成C2~C5亚烷基链,并与相邻接的碳原子共同构成环。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于组合化学工业株式会社;庵原化学工业株式会社,未经组合化学工业株式会社;庵原化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200880100263.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。





