[发明专利]使用碳化硅基层形成的二色性滤光镜无效

专利信息
申请号: 200880018966.0 申请日: 2008-08-06
公开(公告)号: CN101680986A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: L·M·扎博夫;V·A·沙玛米安;J·A·塞弗尔利;S·V·珀兹 申请(专利权)人: 陶氏康宁公司
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G02B1/10
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张 钦
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供形成挠性二色性滤光镜的方法。该方法包括与基底相邻地沉积多个成对层。多个成对层中的每一对包括由具有第一折射指数的含硅和碳的材料形成的第一层和由具有不同于第一折射指数的第二折射指数的含硅和碳的材料形成的第二层。
搜索关键词: 使用 碳化硅 基层 形成 二色性 滤光
【主权项】:
1.一种形成挠性二色性滤光镜的方法,该方法包括:在挠性透明塑料基底上沉积多个成对层,其中多个成对层中的每一对包括由具有第一折射指数的含硅和碳的材料形成的第一层和由具有不同于第一折射指数的第二折射指数的含硅和碳的材料形成的第二层。
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