[发明专利]有色分散体、光致抗蚀剂组合物和黑色矩阵有效
申请号: | 200880009943.3 | 申请日: | 2008-11-10 |
公开(公告)号: | CN101646977A | 公开(公告)日: | 2010-02-10 |
发明(设计)人: | 崔东昌;崔庚铢;池昊燦;车槿英;林敏映;金星炫;金韩修;许闰姬;刘志钦 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 苏 萌;钟守期 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明的有色分散体包含一种作为粘合剂树脂的含有式1至4的单体的树脂。因此,可提供一种用于具有高遮光性的黑色矩阵的光致抗蚀剂组合物,该组合物含有分散性稳定的本发明有色分散体;并且可制备一种具有均匀的加工特性同时保持高遮光性的高灵敏性黑色矩阵。 | ||
搜索关键词: | 有色 散体 光致抗蚀剂 组合 黑色 矩阵 | ||
【主权项】:
1.一种有色分散体,该分散体包含:一种含有由下式1至4表示的单体的粘合剂树脂,以及一种分散剂和一种颜料,式1
式2
式3
式4
其中,R1代表氢,或者一个与Rx形成一种二酰亚胺结构或一种五元环羧酸酐的基团,R2和R3选自氢、甲基和羟基甲基,R4代表氢或一个甲基基团;Rx选自C1至C12烷基酯、被1或2个羟基基团取代的C2至C6烷基酯、被C1至C3烷氧基基团取代的C2至C6烷基酯、被卤素基团取代的C1至C6烷基酯、C1至C3烷氧基聚(n=2至30)亚烷基、C2至C3乙二醇酯、被苯基基团取代的C1至C6烷基酯、被C1至C6烷基基团取代的苯基、被C1至C6烷氧基基团取代的苯基、被卤素基团取代的苯基、C1至C6烷氧基甲基基团、环氧丙氧基甲基基团、C5至C15环烷基酯、C6至C12芳族基团和一个与R1形成一种酰亚胺结构或一种五元环羧酸酐的基团,Ry选自C1至C12亚烷基、被卤素基团取代的C1至C6亚烷基基团和C2至C12烷氧基聚亚烷基,Rz代表一个由酸酐引入的基团,x代表1至4,y代表1至70,a代表10至50,b代表1至60,c代表5至60且d代表1至70。
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