[发明专利]通过处理印模表面在基底上形成功能性材料的图案的方法

摘要

本发明提供了一种在基底上形成功能性材料的图案的方法。所述方法使用具有浮雕结构和至少10兆帕的弹性模量的弹性印模，所述浮雕结构具有凸起表面。对印模的至少凸起表面进行处理，处理方法是使印模暴露于热、辐射、电子、带电气流、化学流体、化学蒸汽、以及它们的组合以增强所述表面的润湿性。将功能性材料与液体的组合物施加到浮雕结构上，并移除所述液体以便在凸起表面上形成薄膜。弹性印模将功能性材料从所述凸起表面转移到基底上，从而在基底上形成功能性材料的图案。所述方法适于制造用于电子器件和组件的微电路。

主权项

1.在基底上形成功能性材料的图案的方法，所述方法包括：a)提供具有浮雕结构的弹性印模，所述浮雕结构具有凸起表面，所述印模具有至少10兆帕的弹性模量；b)对所述弹性印模的至少凸起表面进行处理；c)将包含所述功能性材料及液体的组合物施加到所述浮雕结构上；d)从所述浮雕结构上的组合物中移除所述液体，以便在至少所述凸起表面上形成所述功能性材料的薄膜；以及e)将所述功能性材料从所述凸起表面转移到所述基底上。