[实用新型]一种简易抛光机台有效

专利信息
申请号: 200820057691.9 申请日: 2008-04-24
公开(公告)号: CN201186404Y 公开(公告)日: 2009-01-28
发明(设计)人: 龚伟平;李仲劼;郭军伟;许松 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00;B24B41/06;H01L21/304
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 2012*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供了一种简易抛光机台,其具有基座和设置在基座上用于抛光晶粒的抛光台。现有技术中抛光台上并未设置夹持晶粒的夹持模块,而采用人工方式夹持晶粒进行抛光,存在着抛光质量不高和浪费人力的问题。本实用新型的简易抛光机台还具有设置在基座上且用于夹持晶粒以在抛光台上抛光的夹持模块,该夹持模块具有一架设在抛光台上的支架和多个设置在该支架上且用于夹持晶粒的夹持单元。采用本实用新型可提高抛光质量和抛光效率,并大大节约人力。
搜索关键词: 一种 简易 抛光 机台
【主权项】:
1、一种简易抛光机台,其具有基座和设置在基座上用于抛光晶粒的抛光台,其特征在于,该简易抛光机台还具有设置在基座上且用于夹持晶粒以在抛光台上抛光的夹持模块,该夹持模块具有一架设在抛光台上的支架和多个设置在该支架上且用于夹持晶粒的夹持单元。
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