[实用新型]单晶永磁场有效

专利信息
申请号: 200820010573.2 申请日: 2008-02-01
公开(公告)号: CN201165565Y 公开(公告)日: 2008-12-17
发明(设计)人: 张承臣;李恒盛;吴文奎;李文忠 申请(专利权)人: 抚顺隆基磁电设备有限公司
主分类号: C30B30/04 分类号: C30B30/04
代理公司: 抚顺宏达专利代理有限责任公司 代理人: 李壮男
地址: 113122辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种用于与单晶炉配套的永磁场。该单晶永磁场由分别固定在轭板上的两个磁系构成,两轭板经导磁板连接在一起;轭板固定在立柱上,安装在单晶炉两侧,使磁系中心与炉体结晶位置平齐,两磁系相对,与轭板、导磁板形成半围形状。本实用新型可以取代单晶电磁场,磁场强度固定为1200Gs,可以保证多晶硅在结晶为单晶时的工艺参数,可以用在炉主室直径在800mm及800mm以上的单晶炉上。与电磁场相比,节省能源,工作过程中不耗能,免维护,工作过程中无故障,没有噪音污染。
搜索关键词: 永磁
【主权项】:
1、一种单晶永磁场,其特征是:它由分别固定在轭板(3)上的两个磁系(4)构成,两轭板(3)经导磁板(1)连接在一起;轭板(3)固定在立柱(2)上,安装在单晶炉两侧,使磁系(4)中心与炉体结晶位置平齐,两磁系(4)相对,与轭板(3)、导磁板(1)形成半围形状。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于抚顺隆基磁电设备有限公司,未经抚顺隆基磁电设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200820010573.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top