[实用新型]端子改良构造有效
| 申请号： | 200820000194.5 | 申请日： | 2008-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN201146279Y | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 黄祺能;朱茂昌;叶必坚 | 申请（专利权）人： | 帛江科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01R13/46 | 分类号： | H01R13/46;H01R13/502;H01R13/506 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型是提供一种端子改良构造，其中，本实用新型的端子具一立方本体，立方本体内部成型一贯穿通道供插接本体固接，该通道于相对插接本体的末端是连接一凹槽，该凹槽具槽底、内壁及开口端，且是自槽底朝开口端渐缩使凹槽的内壁形成推拔面，又，该凹槽内固设一盖体，该盖体是呈圆弧凸面造型，其凸面中央成型有一凹陷区；藉此，利用凹槽的推拔面设计，可使盖体紧密固设结合而无脱落之虞，而盖体的中央凹陷区设计则有助于改善电镀效果以提升产品品质。 | ||
| 搜索关键词： | 端子 改良 构造 | ||
【主权项】：
1、一种端子改良构造，其特征在于，该端子具一立方本体，立方本体内部成型一贯穿通道供插接本体固接，其另侧则延伸与通道呈垂直状的接线段，该通道在相对插接本体的末端连接一凹槽，该凹槽具槽底、内壁及开口端，且是自槽底朝开口端渐缩使凹槽的内壁形成推拔面，又，该凹槽内固设一盖体，该盖体是呈圆弧凸面造型，其凸面中央成型有一凹陷区。
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