[发明专利]对准装置

摘要

本发明涉及一种对准装置，用以对软微影制程中的基层与上层进行精确对准，该基层具有至少一个第一对准图案，该上层具有至少一个第二对准图案，该对准装置包括一个基准台，其上装载一个基准图形，该基准图形具有与第一对准图案相对应的第一基准图案，及与第二对准图案相对应的第二基准图案；一个承载台，用于承载并固持该基层，该承载台可驱动该基层运动以使该基层上的第一对准图案与该第一基准图案相对准，该上层可通过一个夹持装置夹持并层叠在该基层上，且该夹持装置移动该上层以使该第二对准图案对准该第二基准图案；以及一个光学放大单元，用以对基准图形上的第一、第二基准图案，基层及上层上的第一、第二对准图案进行光学放大。

主权项

1.一种对准装置，用以对软微影制程中的基层与上层进行精确对准，该基层具有至少一个第一对准图案，该上层具有至少一个第二对准图案，该对准装置包括：一个基准台，其上装载一个基准图形，该基准图形具有与至少一个第一对准图案相对应的至少一个第一基准图案，及与至少一个第二对准图案相对应的至少一个第二基准图案；一个承载台，用于承载并固持该基层，该承载台可驱动该基层运动以使该基层上的第一对准图案与该基准图形上的第一基准图案相对准，该上层可通过一个夹持装置夹持并层叠在该基层上，且该夹持装置移动该上层以使该上层的第二对准图案对准该基准图形的第二基准图案；以及一个光学放大单元，其相对于该承载台设置，用以对基准图形上的第一、第二基准图案，基层及上层上的第一、第二对准图案进行光学放大以精确对准该基准图形、基层及上层。