[发明专利]建立神经元之间单细胞水平连接的装置和生长连接方法有效

专利信息
申请号: 200810239923.7 申请日: 2008-12-15
公开(公告)号: CN101748061A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 蒋兴宇;邢仕歌;袁博;王栋;谢赟燕 申请(专利权)人: 国家纳米科学中心
主分类号: C12M3/00 分类号: C12M3/00;C12N5/00
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 王凤华
地址: 100190 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种建立神经元之间单细胞水平连接的装置和方法,其包括:上表面上附蛋白条带的基底,基底上蛋白条带外的区域覆聚醚F127层;覆于基底上表面的下表面具微凹槽单元的聚二甲基硅氧烷印章;微凹槽单元包括:一直线型中间凹槽和设于中间凹槽左或/和右侧的至少一条直线型侧凹槽,侧凹槽中间段与中间凹槽不相交,侧凹槽中间段外的两端段向远离中间凹槽方向倾斜;槽端处设垂直孔道;蛋白条带与凹槽相交不重合;神经元送入通道内只黏附在蛋白质条带上,其突起则沿蛋白条带定向生长而不发生分支,从而获得神经元单细胞水平的单线连接;其结构简单、易操作,可控制神经突起有序生长,可精确研究神经细胞间电信号传导,为生物传感器制造提供基础支持。
搜索关键词: 建立 神经元 之间 单细胞 水平 连接 装置 生长 方法
【主权项】:
一种建立神经元之间单细胞水平连接的装置,其特征在于,包括:一基底,所述基底上表面上附着有促进神经细胞黏附的宽度为5-10微米的蛋白条带;两相邻蛋白条带间间距为20-100微米;所述基底上表面上蛋白条带之外的其它区域涂覆有抗拒细胞黏附的聚醚F127层;一紧密覆于所述基底上表面上的下表面上具有至少一组微凹槽单元的聚二甲基硅氧烷印章;所述微凹槽单元包括:一条直线型中间凹槽;设置于所述直线型中间凹槽左侧或/和右侧的至少一条直线型侧凹槽;所述直线型侧凹槽的中间段与所述直线型中间凹槽不相交,所述直线型侧凹槽中间段之外的两端段分别向远离直线型中间凹槽的方向倾斜;所述直线型中间凹槽、和所述直线型侧凹槽的槽端处分别设有与相应凹槽相通的垂直孔道;所述直线型中间凹槽和所述直线型侧凹槽的长度均在1.5-2厘米范围内,宽度均为40微米;两相邻凹槽槽壁间间距为500微米-1厘米;所述基底上表面上附着的蛋白条带与所述聚二甲基硅氧烷印章的直线型中间凹槽和直线型侧凹槽相交不重合。
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