[发明专利]一种在锆表面渗镀铂薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 200810232476.2 申请日: 2008-11-28
公开(公告)号: CN101413103A 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: 王宝云;李争显;高广睿;杜继红;严鹏 申请(专利权)人: 西北有色金属研究院
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/16;C23C14/54
代理公司: 西安创知专利事务所 代理人: 李子安
地址: 710016陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种在锆表面渗镀铂薄膜的方法,其方法为:将经预处理后的锆工件置入带有加热装置的真空离子镀膜机,预抽真空至1×10-3Pa,加热工件至500℃~800℃,保温一定时间,通入氩气,调节真空度至1~9×10-1Pa,对工件加载负偏压800~2000V,开启装有铂溅射靶的溅射源;调节负偏压至100~500V,再沉积一定时间,关闭溅射源,直到锆工件温度低于100℃后取出。本发明通过控制镀膜工艺参数可制备0.1~10μm的铂扩渗层和0.1~50μm铂沉积层,制备的铂扩渗层与基体锆没有明显的界面,呈冶金结合。
搜索关键词: 一种 表面 渗镀铂 薄膜 方法
【主权项】:
1. 一种在锆表面渗镀铂薄膜的方法,将锆工件表面经过机械抛光、除油清洗和脱水烘干的预处理,其特征在于:将经预处理后的锆工件置入带有辅助加热装置的真空离子镀膜机,预抽真空至1×10-3Pa,加热工件至500℃~800℃,保温10~40min,通入氩气,调节真空度至1×10-1Pa~9×10-1Pa,对工件加载负偏压800~2000V,开启装有铂溅射靶的溅射源5~40min;调节负偏压至100~500V,再沉积10~200min,锆工件表面形成具有0.1~10μm的铂扩渗层和0.1~50μm沉积层的铂薄膜。
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