[发明专利]取代醚类化合物及其应用有效
| 申请号: | 200810227712.1 | 申请日: | 2008-11-28 | 
| 公开(公告)号: | CN101747306A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 | 
| 发明(设计)人: | 刘长令;李淼;王军锋;李慧超;张弘 | 申请(专利权)人: | 中国中化集团公司;沈阳化工研究院 | 
| 主分类号: | C07D311/08 | 分类号: | C07D311/08;A01N43/16;A01P7/00;A01P3/00 | 
| 代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 周秀梅;何薇 | 
| 地址: | 100045 北京市复兴门内*** | 国省代码: | 北京;11 | 
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| 摘要: | 本发明公开了一种取代醚类化合物,结构如通式(I)所示: | ||
| 搜索关键词: | 取代 化合物 及其 应用 | ||
【主权项】:
                1.一种取代醚类化合物,如通式(I)所示:![]() 式中:X选自O或NR1;Y1、Y2可相同或不同,分别选自氢、氟、氯、溴、CH3、CN或CF3;A1、A2可相同或不同,分别选自O、S或NR9;Q选自-CH2-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2CH2-、-CH(CH3)-、-CH(CH3)CH2-、-CH(CH3)CH2CH2-、-CH(C2H5)-、-C(CH3)2-、-CH(CH3)CH(CH3)-、-CH2C(CH3)2CH2-、-CH2CH2OCH2CH2-、-CH2CH2NHCH2CH2-、-CH2CH2SCH2CH2-、-CH2CH2SO2CH2CH2-、-CH2COCH2-、-COCH2CO-、-CH2CH2CO-、-COCH2CH2-、-CH2CO-、-COCH2-、-CH2C(=NOCH3)CH2-、-CH2C(=NN(CH3)2)CH2-、-CH2CH(OH)CH2-、-CH2CH(OCH3)CH2-、-CH2CH(OCOCH3)CH2-或
式中:X选自O或NR1;Y1、Y2可相同或不同,分别选自氢、氟、氯、溴、CH3、CN或CF3;A1、A2可相同或不同,分别选自O、S或NR9;Q选自-CH2-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2CH2-、-CH(CH3)-、-CH(CH3)CH2-、-CH(CH3)CH2CH2-、-CH(C2H5)-、-C(CH3)2-、-CH(CH3)CH(CH3)-、-CH2C(CH3)2CH2-、-CH2CH2OCH2CH2-、-CH2CH2NHCH2CH2-、-CH2CH2SCH2CH2-、-CH2CH2SO2CH2CH2-、-CH2COCH2-、-COCH2CO-、-CH2CH2CO-、-COCH2CH2-、-CH2CO-、-COCH2-、-CH2C(=NOCH3)CH2-、-CH2C(=NN(CH3)2)CH2-、-CH2CH(OH)CH2-、-CH2CH(OCH3)CH2-、-CH2CH(OCOCH3)CH2-或![]() R1选自氢、C1-C12烷基、卤代C1-C12烷基、C1-C12烷基羰基、C1-C12烷氧基C1-C12烷基、C1-C12烷氧基羰基、C1-C12烷氧基羰基C1-C12烷基、C1-C12卤代烷氧基C1-C12烷基或R10;R2、R3、R4、R5、R6可相同或不同,分别选自氢、卤素、硝基、氰基、CONH2、CH2CONH2、CH2CN、C1-C12烷基、卤代C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、卤代C1-C12烷氧基、C1-C12烷硫基、卤代C1-C12烷硫基、C1-C12烷磺酰基、C1-C12烷基羰基、C1-C12烷氧基C1-C12烷基、C1-C12烷氧基羰基、C1-C12烷氧基羰基C1-C12烷基、C1-C12卤代烷氧基C1-C12烷基或R11;或杂环的3位与4位相连成五元或六元环;R7、R8可相同或不同,分别选自卤素、羟基、巯基、氰基、硝基、C1-C12烷基、卤代C1-C12烷基、C1-C12烷基羰基、C2-C12烯基、卤代C2-C12烯基、C2-C12炔基、C1-C12烷氧基、卤代C1-C12烷氧基、C2-C12烯氧基、卤代C2-C12烯氧基、C3-C12炔氧基、卤代C3-C12炔氧基、C1-C12烷硫基、卤代C1-C12烷硫基、C1-C12烷基磺酰基、C1-C12烷基亚砜基、C1-C12烷氧基C1-C12烷基、C1-C12烷氧基羰基、C1-C12烷氧基羰基C1-C12烷基或C1-C12卤代烷氧基C1-C12烷基;R9选自氢或C1-C12烷基;R10选自氨基C1-C12烷基、芳基、杂芳基、芳基C1-C12烷基或杂芳基C1-C12烷基,或被1-5个独立选自以下基团进一步取代的上述基团:卤素、硝基、氰基、CO2R6、CONHR6、C1-C6烷基、卤代C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、卤代C1-C6烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷基羰基、C1-C6烷氧基羰基或R11;R11选自氨基C1-C12烷基、芳基、杂芳基、芳氧基、芳基C1-C12烷基、芳基C1-C12烷基氧基、杂芳基C1-C12烷基或杂芳基C1-C12烷氧基,或被1-5个独立选自以下基团进一步取代的上述基团:卤素、硝基、氰基、CO2R6、CONHR6、C1-C6烷基、卤代C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、卤代C1-C6烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷基羰基、C1-C6烷氧基羰基或R11;杂环的键合位置选自4、6、7或8位;当A2与杂环4位连接时,则R3在6位,R5在7位,R6在8位;当A2与杂环6位连接时,则R3在4位,R5在7位,R6在8位;当A2与杂环7位连接时,则R3在4位,R5在6位,R6在8位;当A2与杂环8位连接时,则R3在4位,R5在6位,R6在7位。
R1选自氢、C1-C12烷基、卤代C1-C12烷基、C1-C12烷基羰基、C1-C12烷氧基C1-C12烷基、C1-C12烷氧基羰基、C1-C12烷氧基羰基C1-C12烷基、C1-C12卤代烷氧基C1-C12烷基或R10;R2、R3、R4、R5、R6可相同或不同,分别选自氢、卤素、硝基、氰基、CONH2、CH2CONH2、CH2CN、C1-C12烷基、卤代C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、卤代C1-C12烷氧基、C1-C12烷硫基、卤代C1-C12烷硫基、C1-C12烷磺酰基、C1-C12烷基羰基、C1-C12烷氧基C1-C12烷基、C1-C12烷氧基羰基、C1-C12烷氧基羰基C1-C12烷基、C1-C12卤代烷氧基C1-C12烷基或R11;或杂环的3位与4位相连成五元或六元环;R7、R8可相同或不同,分别选自卤素、羟基、巯基、氰基、硝基、C1-C12烷基、卤代C1-C12烷基、C1-C12烷基羰基、C2-C12烯基、卤代C2-C12烯基、C2-C12炔基、C1-C12烷氧基、卤代C1-C12烷氧基、C2-C12烯氧基、卤代C2-C12烯氧基、C3-C12炔氧基、卤代C3-C12炔氧基、C1-C12烷硫基、卤代C1-C12烷硫基、C1-C12烷基磺酰基、C1-C12烷基亚砜基、C1-C12烷氧基C1-C12烷基、C1-C12烷氧基羰基、C1-C12烷氧基羰基C1-C12烷基或C1-C12卤代烷氧基C1-C12烷基;R9选自氢或C1-C12烷基;R10选自氨基C1-C12烷基、芳基、杂芳基、芳基C1-C12烷基或杂芳基C1-C12烷基,或被1-5个独立选自以下基团进一步取代的上述基团:卤素、硝基、氰基、CO2R6、CONHR6、C1-C6烷基、卤代C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、卤代C1-C6烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷基羰基、C1-C6烷氧基羰基或R11;R11选自氨基C1-C12烷基、芳基、杂芳基、芳氧基、芳基C1-C12烷基、芳基C1-C12烷基氧基、杂芳基C1-C12烷基或杂芳基C1-C12烷氧基,或被1-5个独立选自以下基团进一步取代的上述基团:卤素、硝基、氰基、CO2R6、CONHR6、C1-C6烷基、卤代C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、卤代C1-C6烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷基羰基、C1-C6烷氧基羰基或R11;杂环的键合位置选自4、6、7或8位;当A2与杂环4位连接时,则R3在6位,R5在7位,R6在8位;当A2与杂环6位连接时,则R3在4位,R5在7位,R6在8位;当A2与杂环7位连接时,则R3在4位,R5在6位,R6在8位;当A2与杂环8位连接时,则R3在4位,R5在6位,R6在7位。
            
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