[发明专利]用于化学气相沉积(CVD)的基板处理设备

摘要

本发明提供一种用于化学气相沉积(CVD)的基板处理设备，包含用以承置玻璃基板的基座，并于基座上方设有可相对基座作垂直位移的遮蔽框架，基座和遮蔽框架分别设有同样为陶瓷材质的复位钮与复位块，能避免复位钮通过卡合固定于复位块来进行相互对位时造成复位块容易损伤的问题，且上述陶瓷复位块为可拆卸式，修缮时无须更换整个遮蔽框架，可有效延长遮蔽框架的使用寿命，并减少生产成本及提高产品良率。

主权项

一种用于化学气相沉积(CVD)的基板处理设备，其特征在于：包含，一基座，具有一处理平台，用以承置一玻璃基板，该处理平台周围凸设至少一陶瓷复位钮(Reset Button)；一遮蔽框架，设有一对应该处理平台的凹槽，且底部对应该陶瓷复位钮设有至少一陶瓷复位块；以及多个陶瓷复位块，设置固定于该遮蔽框架上，并其设置为可拆卸装置，可自该遮蔽框架拆卸更替。