[发明专利]喷射条件调整装置、方法和程序以及液滴喷射装置无效
| 申请号： | 200810214459.6 | 申请日： | 2008-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN101372172A | 公开（公告）日： | 2009-02-25 |
| 发明（设计）人： | 桑原宗市 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/145 | 分类号： | B41J2/145;B41J2/07 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马高平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开喷射条件调整装置、方法和程序以及液滴喷射装置。所述喷射条件调整装置包括：一单元，该单元构造成在所驱动的大头包括多个小头，每个小头具有数个喷孔，且所述小头彼此相邻地设置在所述大头上使得各个小头的设置所述喷孔的区域彼此部分重叠的情况下，设定各小头的喷射定时以及所用喷孔的范围，以使得各个小头形成的图案中相邻图案之间的位置偏移被最小化。 | ||
| 搜索关键词： | 喷射 条件 调整 装置 方法 程序 以及 | ||
【主权项】：
1.一种喷射条件调整装置，包括：一单元，该单元构造成在所驱动的大头包括多个小头，每个小头具有数个喷孔，且所述小头彼此相邻地设置在所述大头上使得各个小头的设置所述喷孔的区域彼此部分重叠的情况下，设定各小头的喷射定时以及所用喷孔的范围，以使得各个小头形成的图案中相邻图案之间的位置偏移被最小化。
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