[发明专利]一种光刻胶清洗剂组合物无效
| 申请号： | 200810203714.7 | 申请日： | 2008-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN101750911A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 史永涛;彭洪修;曹惠英 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶清洗剂组合物。这种光刻胶清洗剂组合物包含季铵氢氧化物、水、烷基二醇碳原子数目为3～18的烷基二醇芳基醚、二甲基亚砜和至少一种选自柠檬酸、柠檬酸酯和柠檬酸盐的缓蚀剂。这种光刻胶清洗剂组合物可进一步包含极性有机共溶剂、表面活性剂和/或其它缓蚀剂。这种光刻胶清洗剂组合物可以除去金属、金属合金或电介质基材上的厚度为20μm以上的光刻胶(尤其是厚膜负性光刻胶)和其它刻蚀残留物，同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料的腐蚀性较低，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 洗剂 组合 | ||
【主权项】：
一种光刻胶清洗剂组合物，包含季铵氢氧化物、水、烷基二醇芳基醚、二甲基亚砜和缓蚀剂，其特征在于，所述的缓蚀剂包含选自柠檬酸、柠檬酸酯和柠檬酸盐中的一种或多种。
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