[发明专利]发声装置无效
| 申请号： | 200810191739.X | 申请日： | 2008-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN101771920A | 公开（公告）日： | 2010-07-07 |
| 发明（设计）人： | 刘亮 | 申请（专利权）人： | 北京富纳特创新科技有限公司 |
| 主分类号： | H04R23/00 | 分类号： | H04R23/00;C01B31/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种发声装置，其包括：一基底；至少一第一电极，该至少第一电极设置于所述基底；至少一第二电极，该至少第二电极间隔该第一电极设置于所述基底；以及一发声元件，该发声元件包括一碳纳米管结构，该碳纳米管结构与所述至少一第一电极与至少一第二电极电连接；其中，所述至少一第一电极与该至少一第二电极分别夹持该发声元件，该发声装置进一步包括至少一间隔元件，该至少一间隔元件设置于所述基底，间隔该发声元件与该基底形成有一空间。 | ||
| 搜索关键词： | 发声 装置 | ||
【主权项】：
一种发声装置，其包括：一基底；至少一第一电极，该至少第一电极设置于所述基底；至少一第二电极，该至少第二电极间隔该第一电极设置于所述基底；以及一发声元件，该发声元件包括一碳纳米管结构，该碳纳米管结构与所述至少一第一电极与至少一第二电极电连接；其特征在于，所述至少一第一电极与该至少一第二电极分别夹持该发声元件，该发声装置进一步包括至少一间隔元件，该至少一间隔元件设置于所述基底与碳纳米管结构之间，使该碳纳米管结构与该基底形成有一间隙。
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