[发明专利]负型光刻胶组合物及使用其制造阵列基板的方法有效
| 申请号： | 200810190664.3 | 申请日： | 2008-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN101477308A | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 姜勋;金载星;郑壤镐;李羲国;龟山泰弘;瑞穗右二;金宗铁;崔世振 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;高科技实美化学株式公社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/028;H01L21/84 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋 莉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供负型光刻胶组合物及使用其制造阵列基板的方法。负型光刻胶组合物包括：包含含有乙烯不饱和键的乙烯不饱和化合物和光聚合引发剂的能光固化组合物；包含通过热交联的碱溶性树脂的热固性组合物；和有机溶剂。该负型光刻胶组合物改善稳定性、感光度、在进行显影操作后的可分离性，并减少残留物以改善有机绝缘层的可靠性。此外，负型光刻胶组合物改善有机绝缘层的透射率并减小色坐标的变化以改善显示装置的显示质量。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 组合 使用 制造 阵列 方法 | ||
【主权项】：
1. 负型光刻胶组合物，包括：包含具有乙烯不饱和键的乙烯不饱和化合物和光聚合引发剂的能光固化组合物；包含通过热交联的碱溶性树脂的热固性组合物；和有机溶剂。
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