[发明专利]使用可变形束的曝光方法以及使用所述方法的图案形成方法有效
| 申请号： | 200810190345.2 | 申请日： | 2008-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN101482703A | 公开（公告）日： | 2009-07-15 |
| 发明（设计）人： | 李昊骏 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 戎志敏 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种使用可变形束的曝光方法，可以在校正电路图案的设计CD的CD线性度期间，最小化临界尺寸(CD)分布和目标平均(MTT)差值，还提供了一种使用该曝光方法的图案形成方法。在曝光方法中，确定用于使电路图案曝光的射束的设计尺寸是小于特定值还是大于特定值。如果设计尺寸大于该值，则线性地校正射束的尺寸。当设计尺寸小于该值时，非线性地校正射束的尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 变形 曝光 方法 以及 图案 形成 | ||
【主权项】：
1、一种使用可变形束的曝光方法，所述方法包括：确定射束的设计尺寸是小于特定值还是大于特定值，所述射束用于对电路图案进行曝光；如果设计尺寸大于特定值，则对射束的尺寸进行线性校正；以及如果设计尺寸小于特定值，则对射束的尺寸进行非线性校正。
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